پوششهای یوانان که برای فرآیندهای فرسایش لیزری طراحی شدهاند، دقت شیار را بر روی بسترهای نیمهرسانا افزایش میدهند و در عین حال آسیب حرارتی را به حداقل میرسانند. فرمولهای حساس به عکس حذف مواد تمیز را امکانپذیر میسازد، به مسائل مربوط به لایهبرداری و کربنسازی در بستهبندیهای پیشرفته و تولید MEMS میپردازد.