پوششهای یوانان که برای فرآیندهای فرسایش لیزری طراحی شدهاند، دقت شیار را بر روی بسترهای نیمهرسانا افزایش میدهند و در عین حال آسیب حرارتی را به حداقل میرسانند. فرمولهای حساس به عکس، حذف مواد تمیز را امکانپذیر میسازد، مشکلات لایهبرداری و کربنسازی را در بستهبندیهای پیشرفته و تولید MEMS برطرف میکند.