| Tilgjengelighet: | |
|---|---|
| Antall: | |
2214AC
2214AC Eco-Friendly Efficient Semiconductor Wafer Wax Remover er et miljøvennlig og svært effektivt voksfjernings- og rengjøringsprodukt, formulert med unike og høykvalitets overflateaktive stoffer gjennom vitenskapelige metoder. Den har rask, praktisk og rask fjerning av voks, langvarig effekt, god vannvaskytelse, lav flyktighet og ikke-brennbarhet. Den har lang rengjøringstid. Det har ingen korrosiv effekt på halvledermaterialer, optiske materialer osv. selv, har god selvstabilitet, og forblir uendret under langtidslagring.
a) Miljøsikker
Fri for tungmetaller/fosfor og andre skadelige stoffer, fullstendig biologisk nedbrytbar, beskytter miljøet og arbeidernes helse.
b) Effektiv rengjøring
Det kan sterkt løse opp harpiks og lim, og har en bemerkelsesverdig renseeffekt.
c) Termisk stabilitet
Kokepunktet er så høyt som 200 ℃, og det er en liten lukt under bruk.
d) Økonomisk ikke-skadelig
Lav pris, korroderer ikke materialer og opprettholder overflateglans.
| Kjennetegn | Enhet | Data |
| Utseende (Original væske) | - | Gjennomsiktig væske |
| Utseende (fortynnet løsning) | - | Gjennomsiktig væske |
| Lukt | - | Litt |
| Pour Point | ℃ | 1 |
| Tetthet | kg/m³.15℃ | 0.95 |
| pH-verdi | - | 6,5±0,5 |
a) Halvlederindustri og optoelektronisk industri
Spesielt designet for wafer-produksjon og kan effektivt fjerne voksrester fra metallbindingsprosesser, og sikrer at overflaten er fri for forurensning. Formelen med lav korrosivitet er kompatibel med materialer som kobber og aluminium, og oppfyller renhetskravene til avanserte produksjonsprosesser.
b) LED-brikkeproduksjon
For rengjøring av poleringsvoks etter bakfortynning av LED-brikker, kan det raskt løse opp vokslaget uten å skade GaN/SiC-substratet.
c) Optisk og elektronisk materiale
Den egner seg for presis avvoksing av materialer som safir og silisiumskiver, og er spesielt god til å håndtere komplekse voksrester i piezoelektrisk keramikk. Den nøytrale PH-verdiformelen unngår overflateoksidasjon eller gitterskader av materialet.
d) Bearbeiding av harde materialer (optiske krystaller/SIC-polering/keramikk, etc.)
Ved etterbehandling av SiC waferpolering kan voks- og kolloidrester fjernes samtidig. Dens lave flyktighetskarakteristikk samsvarer med renromsstandardene for optisk krystallproduksjon.
a) Hell den voksfjernende rengjøringsløsningen i en ren beholder, varm den til ønsket rengjøringstemperatur, og utfør deretter ultralyd/nedsenking.
b) Direkte original væskerengjøring utføres. Rengjøringsutstyret kan varmes opp til 50-75°C, og rengjøringsmiddelet kan resirkuleres.
Innholdet av de aktive ingrediensene i voksfjerningsrengjøringsløsningen vil gradvis avta under bruk, og voksfjerningseffekten vil avta. Dette produktet bør erstattes eller legges til regelmessig, og den spesifikke dosen bør bestemmes av den faktiske situasjonen.
Tilsett små mengder flere ganger i henhold til renseeffekt og produksjonsvolum. Hold konsentrasjonen jevn og bland den originale løsningen i henhold til rengjøringseffekten.
Rengjøringseffekten har avtatt betydelig, med overdreven opphopning av olje, smuss og urenheter på overflaten. Når arbeidsvæsken eldes, er det nødvendig å åpne sporene igjen.
c) Ikke la dette produktet komme i kontakt med øynene. Hvis det ved et uhell spruter inn i øynene, løft øyelokkene og skyll grundig med rennende vann eller vanlig saltvann. Ikke svelg dette produktet. Ved svelging ved et uhell, fremkall brekninger, hold deg i ro og søk legehjelp umiddelbart.
d) For å forhindre overdreven avfetting av huden, bruk kjemikaliebestandige hansker under drift.
e) Lagringstiden er to år. Den kan ikke lagres utendørs og beskyttes mot direkte sollys og regn.
f) Bøttelokket på den ubrukte voksfjerneren må strammes for å hindre at vann og urenheter blander seg inn.
innholdet er tomt!