| Dostupnosť: | |
|---|---|
| Množstvo: | |
2214AC
2214AC Eco-Friendly Efficient Semiconductor Wafer Wax Remover je ekologický a vysoko účinný produkt na odstraňovanie a čistenie vosku, formulovaný s jedinečnými a vysokokvalitnými povrchovo aktívnymi látkami pomocou vedeckých metód. Vyznačuje sa rýchlym, pohodlným a rýchlym odstránením vosku, dlhotrvajúcim účinkom, dobrým umývaním vodou, nízkou prchavosťou a nehorľavosťou. Má dlhú životnosť pri čistení. Nemá korozívny účinok na samotné polovodičové materiály, optické materiály atď., má dobrú autostabilitu a zostáva nezmenený pri dlhodobom skladovaní.
a) Bezpečné pre životné prostredie
Bez ťažkých kovov/fosforu a iných škodlivých látok, plne biologicky rozložiteľné, chrániace životné prostredie a zdravie pracovníkov.
b) Efektívne čistenie
Dokáže silne rozpúšťať živice a lepidlá a má pozoruhodný čistiaci účinok.
c) Tepelná stabilita
Bod varu je až 200 ℃ a počas používania je cítiť mierny zápach.
d) Ekonomický neškodlivý
Nízka cena, nekoroduje materiály a zachováva lesk povrchu.
| Charakteristika | Jednotka | Údaje |
| Vzhľad (Pôvodná kvapalina) | - | Priehľadná kvapalina |
| Vzhľad (zriedený roztok) | - | Priehľadná kvapalina |
| Zápach | - | Mierne |
| Pour Point | ℃ | 1 |
| Hustota | kg/m³.15℃ | 0.95 |
| Hodnota pH | - | 6,5 ± 0,5 |
a) Polovodičový priemysel a optoelektronický priemysel
Špeciálne navrhnutý na výrobu doštičiek a dokáže účinne odstrániť zvyšky vosku z procesov spájania kovov, čím zaisťuje, že povrch je bez kontaminácie. Jeho nízkokorozívne zloženie je kompatibilné s materiálmi ako meď a hliník, čím spĺňa požiadavky na čistotu pokročilých výrobných procesov.
b) Výroba LED čipov
Na čistenie leštiaceho vosku po spätnom zriedení LED čipov dokáže rýchlo rozpustiť voskovú vrstvu bez poškodenia GaN/SiC substrátu.
c) Optické a elektronické materiály
Je vhodný na presné odparafínovanie materiálov, ako sú zafír a kremíkové doštičky, a je obzvlášť dobrý pri riešení zložitých zvyškov vosku v piezoelektrickej keramike. Neutrálny vzorec hodnoty PH zabraňuje povrchovej oxidácii alebo poškodeniu mriežky materiálu.
d) Spracovanie tvrdých materiálov (optické kryštály / SIC leštenie / keramika atď.)
Pri dodatočnom spracovaní leštenia doštičiek SiC možno súčasne odstrániť zvyšky vosku a koloidov. Jeho nízka prchavosť je v súlade s normami čistých priestorov pre výrobu optických kryštálov.
a) Nalejte čistiaci roztok na odstraňovanie vosku do čistej nádoby, zahrejte ju na požadovanú čistiacu teplotu a potom vykonajte čistenie ultrazvukom/ponorením.
b) Vykoná sa priame pôvodné tekuté čistenie. Čistiace zariadenie sa môže zahriať na 50-75 °C a čistiaci prostriedok je možné recyklovať.
Obsah účinných látok v čistiacom roztoku na odstraňovanie vosku sa bude počas používania postupne znižovať a efekt odstraňovania vosku sa spomalí. Tento produkt by sa mal pravidelne vymieňať alebo pridávať a konkrétne dávkovanie by malo byť určené skutočnou situáciou.
Pridávajte v malých množstvách viackrát podľa čistiaceho účinku a objemu výroby. Udržujte rovnomernú koncentráciu a miešajte pôvodný roztok podľa čistiaceho účinku.
Čistiaci účinok sa výrazne znížil s nadmerným hromadením oleja, nečistôt a nečistôt na povrchu. Keď pracovná kvapalina starne, je potrebné znovu otvoriť drážky.
c) Nedovoľte, aby sa tento výrobok dostal do kontaktu s vašimi očami. Ak sa vám náhodou dostane do očí, zdvihnite očné viečka a dôkladne ich opláchnite tečúcou vodou alebo fyziologickým roztokom. Tento výrobok neprehĺtajte. Pri náhodnom požití vyvolajte zvracanie, udržujte v pokoji a okamžite vyhľadajte lekársku pomoc.
d) Aby ste zabránili nadmernému odmasťovaniu pokožky, používajte počas prevádzky rukavice odolné voči chemikáliám.
e) Doba uchovávania je dva roky. Nemožno ho skladovať vonku a chrániť pred priamym slnečným žiarením a dažďom.
f) Veko vedra nepoužitého odstraňovača vosku musí byť utiahnuté, aby sa zabránilo vmiešaniu vody a nečistôt.
obsah je prázdny!