ເຈົ້າຢູ່ນີ້: ບ້ານ / ຜະລິດຕະພັນ / ສານເຄມີສໍາລັບ Semiconductors / ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດສໍາລັບພາກສ່ວນ Precision ແລະ Semiconductor / Mild Acid Hardened Photoresist Stripper

8299 ແຜ່ນສະຕິກເກີ Photoresist ແຂງຂອງອາຊິດອ່ອນ

ອາຊິດອ່ອນໆ ແຂງ Photoresist Stripper

ມັນແມ່ນເຄື່ອງລອກອາຊິດອ່ອນທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມທີ່ສ້າງຂຶ້ນໂດຍສະເພາະເພື່ອເອົາສານຕົກຄ້າງ photoresist ທີ່ແຂງ / ຄາບອນໃນຂະນະທີ່ປົກປ້ອງ substrates ທີ່ລະອຽດອ່ອນເຊັ່ນ Si, GaAs ແລະໂລຫະເຊື່ອມຕໍ່ກັນ.

ຂໍ້ດີ:

ການລົບລ້າງຄວາມກວ້າງຂວາງ
ອາຊິດອ່ອນໆທີ່ປອດໄພຈາກໂລຫະ
Halogen/VOC ບໍ່ມີ
25-90°C ສະຖຽນລະພາບ
1 ຂັ້ນຕອນການກໍາຈັດຄວາມຕ້ານທານກາກບອນ
ການນໍາໃຊ້ຫຼາຍ substrate (SiC/MEMS/flexible)

ຫນ່ວຍບັນຈຸ: 25L / barrel, 200L / barrel

ຈໍານວນ:
ມີ:





ສອບຖາມ ເພີ່ມໃສ່ກະຕ່າ

ຕົວແບບ:
8299

8299 Mild Acid Hardened Photoresist Stripper ເປັນອາຊິດອ່ອນໆແລະການແກ້ໄຂ photoresist ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ, ແລະຖືກອອກແບບມາເປັນພິເສດເພື່ອແກ້ໄຂບັນຫາການຕົກຄ້າງຂອງ photoresist ລົບຫຼັງຈາກ ashing , curing , ຫຼືແມ້ກະທັ້ງ carbonization . ຮູບແບບທີ່ເປັນເອກະລັກຂອງມັນ, ການລວມເອົາອາຊິດອິນຊີ, ທາດຍັບຍັ້ງການກັດກ່ອນທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ, ແລະຕົວລະລາຍທີ່ມີຄວາມຍືດຫຍຸ່ນຕ່ໍາ, ຮັບປະກັນການກໍາຈັດ photoresist ທີ່ມີປະສິດທິພາບພາຍໃຕ້ສະພາບທີ່ບໍ່ຮຸນແຮງໃນຂະນະທີ່ປົກປ້ອງວັດສະດຸແລະຊັ້ນຍ່ອຍຕ່າງໆຢ່າງປອດໄພ.

a) ຄວາມສາມາດຂອງການໂຍກຍ້າຍ photoresist ກວ້າງສະແດງກິ່ງງ່າ

ໃຊ້ໄດ້ກັບທັງ Photoresists ໃນທາງບວກແລະທາງລົບ: ສະແດງໃຫ້ເຫັນຄວາມຊໍານານໂດຍສະເພາະໃນການຈັດການສິ່ງເສດເຫຼືອທີ່ແຂງກະດ້າງຫຼັງຈາກຂີ້ເຖົ່າ, ການຮັກສາ, ແລະຄາບອນ.

b) ສູດອາຊິດອ່ອນ

ຄ່າ pH: ຢູ່ໃນລະດັບລະຫວ່າງ 3-5, ຫຼີກເວັ້ນການ corrosion ກັບຊັ້ນໂລຫະເຊັ່ນ: Al, Cu, Ti, ແລະສານປະສົມ semiconductors ເຊັ່ນ GaAs.

c) ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ ແລະປອດໄພ

Halogen-Free ແລະ Fluorine-Free: ປະຕິບັດຕາມກົດລະບຽບດ້ານສິ່ງແວດລ້ອມເຊັ່ນ RoHS ແລະ REACH.
ການເຫນັງຕີງຕ່ໍາແລະ VOC ຕ່ໍາ: ບໍ່ມີສານພິດແລະບໍ່ຕິດໄຟ, ຫຼຸດຜ່ອນອັນຕະລາຍໃນບ່ອນເຮັດວຽກແລະປົກປ້ອງສຸຂະພາບຂອງຜູ້ປະຕິບັດງານ.

d) ປະສິດທິພາບຂະບວນການ

ການນຳໃຊ້ອຸນຫະພູມກ້ວາງ (25°C–90°C): ອຸນຫະພູມຕ່ຳທີ່ໝັ້ນຄົງສຳລັບ MEMS/ການຫຸ້ມຫໍ່ຂັ້ນສູງ, ທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງສຳລັບ EUV.
ການເຈາະປະສິດທິພາບ: ສະແດງໃຫ້ເຫັນການລະລາຍທີ່ດີເລີດສໍາລັບການ photoresists crosslinked ສູງ (ຕົວຢ່າງ, SU-8) ແລະ photoresists ລົບ carbonized.
ຂະບວນການງ່າຍດາຍ: ຜະລິດຕະພັນດຽວທີ່ສາມາດເຂົ້າກັນໄດ້ photoresist ສອງ, ຫຼຸດຜ່ອນເວລາການປ່ຽນສາຍການຜະລິດ, ຫຼີກເວັ້ນການປົນເປື້ອນຂ້າມ, ແລະຍືດອາຍຸອຸປະກອນ.

ຄຸນສົມບັດ	Stripper ແບບດັ້ງເດີມ	8299
ຄວາມປອດໄພຂອງວັດສະດຸ	ອາດຈະກັດໂລຫະ (Cu/Al)	ປອດໄພສຳລັບວັດສະດຸຫຼັກທັງໝົດ
Photoresist Rang	ຈຳກັດເປັນ 1 ປະເພດ (+/–)	ຈັດການທຸກປະເພດ + ກາກບອນ
ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ	ມັກຈະມີ VOC/halogen ສູງ	ບໍ່ມີ halogen, VOC ຕໍ່າ
ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນຂະບວນການ	ຕ້ອງການຫຼາຍຜະລິດຕະພັນ	ຫນຶ່ງໃນການແກ້ໄຂສໍາລັບທຸກຄົນ
ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ຂອງອຸປະກອນ	ອາດເຮັດໃຫ້ລົດຖັງຫຼຸດລົງ	ບໍ່ກັດກ່ອນ
ອຸນຫະພູມປະຕິບັດການ	40–80°C	25–90°C

ທີ່ຜ່ານມາ:

ຕໍ່ໄປ:

Post-EUV Photoresist Stripper ສໍາລັບຄາບອນທີ່ຕົກຄ້າງ PR Stripper ທີ່ບໍ່ມີການກັດກ່ອນສໍາລັບ IC ໂຊລູຊັ່ນ Photoresist Stripper ທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມທີ່ຕົກຄ້າງໜ້ອຍ Photoresist Stripper ສໍາລັບ 2.5D/3D IC TSV ພັດລົມອອກ WLP Stripper ເຂົ້າກັນໄດ້ GaAs Photoresist Remover Solution ປະສິດທິພາບສູງ Low-k Dielectric Stripper ສໍາລັບການ Photoresist ລົບ Post-Bake Stripper ອຸນຫະພູມສູງ ທໍ່ Photoresist ອຸນຫະພູມຕ່ໍາສໍາລັບການຕົກຄ້າງຄາບອນ

ຜະລິດຕະພັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ເສັ້ນດ່າງ Photoresist Alkaline ທີ່ບໍ່ມີການກັດກ່ອນສໍາລັບ Semiconductor

ຂ່າວທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ເນື້ອຫາຫວ່າງເປົ່າ!

ລັກສະນະ	ໜ່ວຍ	ຂໍ້ມູນ
ຄ່າ pH	-	3-5
*ກາວິທັດສະເພາະ*	-	0.95-1
ຈຸດຕົ້ມ	°C	190

ອາຊິດອ່ອນໆ ແຂງ Photoresist Stripper

ຜະລິດຕະພັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ຂ່າວທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ນອກເໜືອໄປຈາກນ້ຳ: ຄວາມເປັນຈິງທາງເທັກນິກຂອງການຮຽກຄືນອັດຕາສ່ວນປະສິດທິພາບຂອງແສງຕາເວັນຂອງທ່ານ