| ມີ: | |
|---|---|
| ຈໍານວນ: | |
2214AC
2214AC Eco-Friendly Eco-Friendly Efficient Semiconductor Wafer Wax Remover ເປັນຜະລິດຕະພັນກຳຈັດຂີ້ເຜີ້ງທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ ແລະມີປະສິດທິພາບສູງ, ສ້າງຂຶ້ນດ້ວຍສານ surfactants ທີ່ເປັນເອກະລັກແລະມີຄຸນນະພາບສູງຜ່ານວິທີການວິທະຍາສາດ. ມັນມີລັກສະນະການກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງຢ່າງໄວວາ, ສະດວກແລະລວດໄວ, ຜົນກະທົບທີ່ຍາວນານ, ປະສິດທິພາບການລ້າງນ້ໍາທີ່ດີ, ການລະເຫີຍຕ່ໍາແລະບໍ່ຕິດໄຟ. ມັນມີຊີວິດການທໍາຄວາມສະອາດຍາວ. ມັນບໍ່ມີຜົນກະທົບ corrosive ກັບວັດສະດຸ semiconductor, optical, ແລະອື່ນໆ, ຕົນເອງມີຄວາມຫມັ້ນຄົງດີ, ແລະຍັງບໍ່ມີການປ່ຽນແປງໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາໃນໄລຍະຍາວ.
ກ) ປອດໄພຕໍ່ສິ່ງແວດລ້ອມ
ບໍ່ມີໂລຫະໜັກ/phosphorus ແລະສານອັນຕະລາຍອື່ນໆ, ສາມາດຍ່ອຍສະຫຼາຍທາງຊີວະພາບ, ປົກປ້ອງສິ່ງແວດລ້ອມ ແລະສຸຂະພາບຂອງຜູ້ອອກແຮງງານ.
b) ການທໍາຄວາມສະອາດປະສິດທິພາບ
ມັນສາມາດລະລາຍຢາງແລະກາວຢ່າງແຂງແຮງ, ແລະມີຜົນກະທົບທໍາຄວາມສະອາດທີ່ຫນ້າສັງເກດ.
c) ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນ
ຈຸດຕົ້ມແມ່ນສູງເຖິງ 200 ℃, ແລະມີກິ່ນເລັກນ້ອຍໃນເວລາໃຊ້.
d) ເສດຖະກິດບໍ່ເສຍຫາຍ
ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍຕ່ໍາ, ບໍ່ corrode ວັດສະດຸແລະຮັກສາຄວາມສະຫວ່າງຂອງຫນ້າດິນ.
| ລັກສະນະ | ໜ່ວຍ | ຂໍ້ມູນ |
| ຮູບລັກສະນະ (ຂອງແຫຼວຕົ້ນສະບັບ) | - | ແຫຼວໂປ່ງໃສ |
| ຮູບລັກສະນະ (ການແກ້ໄຂເຈືອຈາງ) | - | ແຫຼວໂປ່ງໃສ |
| ກິ່ນ | - | ເລັກນ້ອຍ |
| Pour ຈຸດ | ℃ | 1 |
| ຄວາມຫນາແຫນ້ນ | kg/m³.15℃ | 0.95 |
| ຄ່າ pH | - | 6.5±0.5 |
ກ) ອຸດສາຫະກຳເຊມິຄອນດັກເຕີ ແລະ ອຸດສາຫະກຳ optoelectronic
ອອກແບບພິເສດສໍາລັບການຜະລິດ wafer ແລະປະສິດທິພາບສາມາດເອົາຂີ້ເຜີ້ງທີ່ຕົກຄ້າງຈາກຂະບວນການຜູກມັດໂລຫະ, ຮັບປະກັນວ່າຫນ້າດິນແມ່ນບໍ່ມີການປົນເປື້ອນ. ສູດການກັດກ່ອນຂອງມັນແມ່ນເຂົ້າກັນໄດ້ກັບວັດສະດຸເຊັ່ນ: ທອງແດງແລະອາລູມິນຽມ, ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຄວາມບໍລິສຸດຂອງຂະບວນການຜະລິດຂັ້ນສູງ.
b) ການຜະລິດຊິບ LED
ສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດຂອງຂີ້ເຜີ້ງຂັດຫຼັງຈາກບາງດ້ານຂອງຊິບ LED, ມັນສາມາດລະລາຍຊັ້ນຂີ້ເຜີ້ງໄດ້ຢ່າງໄວວາໂດຍບໍ່ທໍາລາຍຊັ້ນຍ່ອຍ GaN / SiC.
c) ອຸປະກອນ optical ແລະເອເລັກໂຕຣນິກ
ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການ dewaxing ຊັດເຈນຂອງວັດສະດຸເຊັ່ນ sapphire ແລະ silicon wafers, ແລະໂດຍສະເພາະແມ່ນດີທີ່ຈະຈັດການກັບສານຕົກຄ້າງຂີ້ເຜີ້ງສະລັບສັບຊ້ອນໃນ piezoelectric ceramics. ສູດຄ່າ PH ທີ່ເປັນກາງຫຼີກລ້ຽງການຜຸພັງຂອງພື້ນຜິວ ຫຼືຄວາມເສຍຫາຍຂອງເສັ້ນດ່າງຂອງວັດສະດຸ.
d) ການປຸງແຕ່ງຂອງອຸປະກອນແຂງ (ໄປເຊຍກັນ Optical / SIC polishing / ceramics, ແລະອື່ນໆ)
ໃນການປຸງແຕ່ງຫຼັງການປຸງແຕ່ງ SiC wafer polishing, ຂີ້ເຜີ້ງແລະສານຕົກຄ້າງ colloid ສາມາດເອົາອອກພ້ອມໆກັນ. ລັກສະນະການລະເຫີຍຕໍ່າຂອງມັນປະຕິບັດຕາມມາດຕະຖານຫ້ອງສະອາດສໍາລັບການຜະລິດແກ້ວຕາແສງ.
ກ) ຖອກຢາລ້າງຂີ້ເຜີ້ງໃສ່ຖັງທີ່ສະອາດ, ໃຫ້ຄວາມຮ້ອນໃນອຸນຫະພູມການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ຕ້ອງການ, ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນດໍາເນີນການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic / immersion.
b) ການທໍາຄວາມສະອາດຂອງແຫຼວຕົ້ນສະບັບໂດຍກົງແມ່ນດໍາເນີນການ. ອຸປະກອນທໍາຄວາມສະອາດສາມາດໃຫ້ຄວາມຮ້ອນໄດ້ເຖິງ 50-75 ອົງສາ C, ແລະສານທໍາຄວາມສະອາດສາມາດນໍາມາໃຊ້ໃຫມ່.
ເນື້ອໃນຂອງສ່ວນປະກອບຢ່າງຫ້າວຫັນໃນການແກ້ໄຂການກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງຈະຄ່ອຍໆຫຼຸດລົງໃນລະຫວ່າງການໃຊ້, ແລະຜົນກະທົບການກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງຈະຊ້າລົງ. ຜະລິດຕະພັນນີ້ຄວນໄດ້ຮັບການທົດແທນຫຼືເພີ່ມເປັນປະຈໍາ, ແລະປະລິມານສະເພາະຄວນໄດ້ຮັບການກໍານົດໂດຍສະຖານະການຕົວຈິງ.
ຕື່ມໃນປະລິມານຫນ້ອຍຫຼາຍຄັ້ງຕາມຜົນກະທົບທໍາຄວາມສະອາດແລະປະລິມານການຜະລິດ. ຮັກສາຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນເປັນເອກະພາບແລະປະສົມການແກ້ໄຂຕົ້ນສະບັບຕາມຜົນຂອງການທໍາຄວາມສະອາດ.
ຜົນກະທົບຂອງການທໍາຄວາມສະອາດໄດ້ຫຼຸດລົງຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ, ມີການສະສົມຂອງນ້ໍາມັນ, ຝຸ່ນແລະສິ່ງສົກກະປົກຫຼາຍເກີນໄປ. ເມື່ອນ້ໍາເຮັດວຽກມີອາຍຸ, ມັນຈໍາເປັນຕ້ອງເປີດຮ່ອງໃຫມ່.
c) ຢ່າປ່ອຍໃຫ້ຜະລິດຕະພັນນີ້ເຂົ້າໄປໃນຕາຂອງເຈົ້າ. ຖ້າມັນກະດ້າງເຂົ້າຕາຂອງເຈົ້າໂດຍບັງເອີນ, ໃຫ້ຍົກໜັງຕາຂອງເຈົ້າອອກ ແລະລ້າງອອກດ້ວຍນໍ້າ ຫຼືນໍ້າເຄັມທຳມະດາ. ຢ່າກືນກິນຜະລິດຕະພັນນີ້. ຖ້າກືນກິນໂດຍບັງເອີນ, ເຮັດໃຫ້ເກີດອາການຮາກ, ໃຫ້ພັກຜ່ອນແລະໄປຫາແພດທັນທີ.
d) ເພື່ອປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ຜິວຫນັງ degreasing ຫຼາຍເກີນໄປ, ໃສ່ຖົງມືທີ່ທົນທານຕໍ່ສານເຄມີໃນລະຫວ່າງການປະຕິບັດງານ.
e) ໄລຍະເວລາການເກັບຮັກສາແມ່ນສອງປີ. ມັນບໍ່ສາມາດເກັບຮັກສາໄວ້ກາງແຈ້ງແລະປ້ອງກັນຈາກແສງແດດໂດຍກົງແລະຝົນ.
f) ຝາຖັງຂອງເຄື່ອງລ້າງຂີ້ເຜີ້ງທີ່ບໍ່ໄດ້ໃຊ້ແລ້ວຕ້ອງຖືກຮັດແຫນ້ນເພື່ອປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ນ້ໍາແລະສິ່ງເສດເຫຼືອປົນຢູ່ໃນ.
ເນື້ອຫາຫວ່າງເປົ່າ!