ກຳລັງໂຫຼດ

ເຄື່ອງດູດຝຸ່ນ Semiconductor Wafer ທີ່ມີປະສິດທິພາບເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ

2214AC ເປັນເຄື່ອງກຳຈັດຂີ້ເຜີ້ງທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມສຳລັບ wafers semiconductor ແລະ optical, ປະກອບດ້ວຍສູດທີ່ບໍ່ມີການກັດກ່ອນ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນ, ແລະ biodegradability ຢ່າງເຕັມທີ່.
 
ຂໍ້ດີ:
  • ອົງປະກອບທີ່ບໍ່ມີໂລຫະຫນັກ
  • 200 ℃ ຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນ
  • ບໍ່ເປັນອັນຕະລາຍຕໍ່ substrate
  • ການລີໄຊເຄີນທີ່ຄຸ້ມຄ່າ
  • ຄວາມຜັນຜວນທີ່ເຂົ້າກັນໄດ້ກັບຫ້ອງສະອາດ
  • ການລະລາຍຢາງໄວ
 
ການຫຸ້ມຫໍ່: 5 KG / Barrel, 25 KG / Barrel
ມີ:
ຈໍານວນ:
ປຸ່ມການແບ່ງປັນ facebook
ປຸ່ມການແບ່ງປັນ twitter
ປຸ່ມ​ແບ່ງ​ປັນ​ເສັ້ນ​
ປຸ່ມການແບ່ງປັນ wechat
linkedin ປຸ່ມການແບ່ງປັນ
ປຸ່ມການແບ່ງປັນ pinterest
ປຸ່ມການແບ່ງປັນ whatsapp
ປຸ່ມການແບ່ງປັນ kakao
ປຸ່ມການແບ່ງປັນ Snapchat
ປຸ່ມການແບ່ງປັນໂທລະເລກ
ແບ່ງປັນປຸ່ມແບ່ງປັນນີ້
  • 2214AC

2214AC Eco-Friendly Eco-Friendly Efficient Semiconductor Wafer Wax Remover ເປັນຜະລິດຕະພັນກຳຈັດຂີ້ເຜີ້ງທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມ ແລະມີປະສິດທິພາບສູງ, ສ້າງຂຶ້ນດ້ວຍສານ surfactants ທີ່ເປັນເອກະລັກແລະມີຄຸນນະພາບສູງຜ່ານວິທີການວິທະຍາສາດ. ມັນມີລັກສະນະການກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງຢ່າງໄວວາ, ສະດວກແລະລວດໄວ, ຜົນກະທົບທີ່ຍາວນານ, ປະສິດທິພາບການລ້າງນ້ໍາທີ່ດີ, ການລະເຫີຍຕ່ໍາແລະບໍ່ຕິດໄຟ. ມັນມີຊີວິດການທໍາຄວາມສະອາດຍາວ. ມັນບໍ່ມີຜົນກະທົບ corrosive ກັບວັດສະດຸ semiconductor, optical, ແລະອື່ນໆ, ຕົນເອງມີຄວາມຫມັ້ນຄົງດີ, ແລະຍັງບໍ່ມີການປ່ຽນແປງໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາໃນໄລຍະຍາວ.

ກ) ປອດໄພຕໍ່ສິ່ງແວດລ້ອມ

  • ບໍ່ມີໂລຫະໜັກ/phosphorus ແລະສານອັນຕະລາຍອື່ນໆ, ສາມາດຍ່ອຍສະຫຼາຍທາງຊີວະພາບ, ປົກປ້ອງສິ່ງແວດລ້ອມ ແລະສຸຂະພາບຂອງຜູ້ອອກແຮງງານ.

b) ການທໍາຄວາມສະອາດປະສິດທິພາບ

  • ມັນ​ສາ​ມາດ​ລະ​ລາຍ​ຢາງ​ແລະ​ກາວ​ຢ່າງ​ແຂງ​ແຮງ​, ແລະ​ມີ​ຜົນ​ກະ​ທົບ​ທໍາ​ຄວາມ​ສະ​ອາດ​ທີ່​ຫນ້າ​ສັງ​ເກດ​.

c) ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນ

  • ຈຸດຕົ້ມແມ່ນສູງເຖິງ 200 ℃, ແລະມີກິ່ນເລັກນ້ອຍໃນເວລາໃຊ້.

d) ເສດຖະກິດບໍ່ເສຍຫາຍ

  • ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍຕ່ໍາ, ບໍ່ corrode ວັດສະດຸແລະຮັກສາຄວາມສະຫວ່າງຂອງຫນ້າດິນ.


ລັກສະນະ ໜ່ວຍ ຂໍ້ມູນ
ຮູບລັກສະນະ (ຂອງແຫຼວຕົ້ນສະບັບ) - ແຫຼວໂປ່ງໃສ
ຮູບລັກສະນະ (ການແກ້ໄຂເຈືອຈາງ) - ແຫຼວໂປ່ງໃສ
ກິ່ນ - ເລັກນ້ອຍ
Pour ຈຸດ ℃ 1
ຄວາມຫນາແຫນ້ນ kg/m³.15℃ 0.95
ຄ່າ pH - 6.5±0.5


ກ) ອຸດສາຫະກຳເຊມິຄອນດັກເຕີ ແລະ ອຸດສາຫະກຳ optoelectronic

  • ອອກແບບພິເສດສໍາລັບການຜະລິດ wafer ແລະປະສິດທິພາບສາມາດເອົາຂີ້ເຜີ້ງທີ່ຕົກຄ້າງຈາກຂະບວນການຜູກມັດໂລຫະ, ຮັບປະກັນວ່າຫນ້າດິນແມ່ນບໍ່ມີການປົນເປື້ອນ. ສູດການກັດກ່ອນຂອງມັນແມ່ນເຂົ້າກັນໄດ້ກັບວັດສະດຸເຊັ່ນ: ທອງແດງແລະອາລູມິນຽມ, ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຄວາມບໍລິສຸດຂອງຂະບວນການຜະລິດຂັ້ນສູງ.

b) ການຜະລິດຊິບ LED

  • ສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດຂອງຂີ້ເຜີ້ງຂັດຫຼັງຈາກບາງດ້ານຂອງຊິບ LED, ມັນສາມາດລະລາຍຊັ້ນຂີ້ເຜີ້ງໄດ້ຢ່າງໄວວາໂດຍບໍ່ທໍາລາຍຊັ້ນຍ່ອຍ GaN / SiC.

c) ອຸປະກອນ optical ແລະເອເລັກໂຕຣນິກ

  • ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການ dewaxing ຊັດເຈນຂອງວັດສະດຸເຊັ່ນ sapphire ແລະ silicon wafers, ແລະໂດຍສະເພາະແມ່ນດີທີ່ຈະຈັດການກັບສານຕົກຄ້າງຂີ້ເຜີ້ງສະລັບສັບຊ້ອນໃນ piezoelectric ceramics. ສູດຄ່າ PH ທີ່ເປັນກາງຫຼີກລ້ຽງການຜຸພັງຂອງພື້ນຜິວ ຫຼືຄວາມເສຍຫາຍຂອງເສັ້ນດ່າງຂອງວັດສະດຸ.

d​) ການ​ປຸງ​ແຕ່ງ​ຂອງ​ອຸ​ປະ​ກອນ​ແຂງ (ໄປ​ເຊຍ​ກັນ Optical / SIC polishing / ceramics​, ແລະ​ອື່ນໆ​)

  • ໃນການປຸງແຕ່ງຫຼັງການປຸງແຕ່ງ SiC wafer polishing, ຂີ້ເຜີ້ງແລະສານຕົກຄ້າງ colloid ສາມາດເອົາອອກພ້ອມໆກັນ. ລັກສະນະການລະເຫີຍຕໍ່າຂອງມັນປະຕິບັດຕາມມາດຕະຖານຫ້ອງສະອາດສໍາລັບການຜະລິດແກ້ວຕາແສງ.


ກ) ຖອກຢາລ້າງຂີ້ເຜີ້ງໃສ່ຖັງທີ່ສະອາດ, ໃຫ້ຄວາມຮ້ອນໃນອຸນຫະພູມການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ຕ້ອງການ, ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນດໍາເນີນການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic / immersion.

b) ການທໍາຄວາມສະອາດຂອງແຫຼວຕົ້ນສະບັບໂດຍກົງແມ່ນດໍາເນີນການ. ອຸປະກອນທໍາຄວາມສະອາດສາມາດໃຫ້ຄວາມຮ້ອນໄດ້ເຖິງ 50-75 ອົງສາ C, ແລະສານທໍາຄວາມສະອາດສາມາດນໍາມາໃຊ້ໃຫມ່.

  • ເນື້ອໃນຂອງສ່ວນປະກອບຢ່າງຫ້າວຫັນໃນການແກ້ໄຂການກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງຈະຄ່ອຍໆຫຼຸດລົງໃນລະຫວ່າງການໃຊ້, ແລະຜົນກະທົບການກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງຈະຊ້າລົງ. ຜະລິດຕະພັນນີ້ຄວນໄດ້ຮັບການທົດແທນຫຼືເພີ່ມເປັນປະຈໍາ, ແລະປະລິມານສະເພາະຄວນໄດ້ຮັບການກໍານົດໂດຍສະຖານະການຕົວຈິງ.

  • ຕື່ມໃນປະລິມານຫນ້ອຍຫຼາຍຄັ້ງຕາມຜົນກະທົບທໍາຄວາມສະອາດແລະປະລິມານການຜະລິດ. ຮັກສາຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນເປັນເອກະພາບແລະປະສົມການແກ້ໄຂຕົ້ນສະບັບຕາມຜົນຂອງການທໍາຄວາມສະອາດ.

  • ຜົນກະທົບຂອງການທໍາຄວາມສະອາດໄດ້ຫຼຸດລົງຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ, ມີການສະສົມຂອງນ້ໍາມັນ, ຝຸ່ນແລະສິ່ງສົກກະປົກຫຼາຍເກີນໄປ. ເມື່ອນ້ໍາເຮັດວຽກມີອາຍຸ, ມັນຈໍາເປັນຕ້ອງເປີດຮ່ອງໃຫມ່.

c) ຢ່າປ່ອຍໃຫ້ຜະລິດຕະພັນນີ້ເຂົ້າໄປໃນຕາຂອງເຈົ້າ. ຖ້າມັນກະດ້າງເຂົ້າຕາຂອງເຈົ້າໂດຍບັງເອີນ, ໃຫ້ຍົກໜັງຕາຂອງເຈົ້າອອກ ແລະລ້າງອອກດ້ວຍນໍ້າ ຫຼືນໍ້າເຄັມທຳມະດາ. ຢ່າກືນກິນຜະລິດຕະພັນນີ້. ຖ້າກືນກິນໂດຍບັງເອີນ, ເຮັດໃຫ້ເກີດອາການຮາກ, ໃຫ້ພັກຜ່ອນແລະໄປຫາແພດທັນທີ.

d) ເພື່ອປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ຜິວຫນັງ degreasing ຫຼາຍເກີນໄປ, ໃສ່ຖົງມືທີ່ທົນທານຕໍ່ສານເຄມີໃນລະຫວ່າງການປະຕິບັດງານ.

e) ໄລຍະເວລາການເກັບຮັກສາແມ່ນສອງປີ. ມັນບໍ່ສາມາດເກັບຮັກສາໄວ້ກາງແຈ້ງແລະປ້ອງກັນຈາກແສງແດດໂດຍກົງແລະຝົນ.

f) ຝາຖັງຂອງເຄື່ອງລ້າງຂີ້ເຜີ້ງທີ່ບໍ່ໄດ້ໃຊ້ແລ້ວຕ້ອງຖືກຮັດແຫນ້ນເພື່ອປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ນ້ໍາແລະສິ່ງເສດເຫຼືອປົນຢູ່ໃນ.


ທີ່ຜ່ານມາ: 
ຕໍ່ໄປ: 
Semiconductor Wafer Cleaner ສໍາລັບຂະບວນການຜູກມັດໂລຫະ ຮັບປະກັນພື້ນຜິວທີ່ບໍ່ມີຂີ້ເຜີ້ງ ການຜະລິດ Wafer ທີ່ເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມພິເສດທີ່ກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງທີ່ມີຊີວິດການທໍາຄວາມສະອາດຍາວ Eco-Conscious Semiconductor Wafer Dewaxing Solution ດ້ວຍປະສິດທິພາບທີ່ເໜືອກວ່າ Green Semiconductor ການຊ່ວຍເຫຼືອການຜະລິດສໍາລັບການກໍາຈັດຂີ້ເຜີ້ງທີ່ມີປະສິດທິພາບ LED Chip Back Thinning Wax Remover (ບໍ່ເປັນອັນຕະລາຍຕໍ່ຊັ້ນຍ່ອຍ GaN/SiC) ເຄື່ອງຂັດຂີ້ເຜີ້ງທີ່ທົນທານຕໍ່ Semiconductor Wafer ທີ່ມີຄວາມຍືດຫຍຸ່ນຕ່ໍາ ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ Semiconductor Wafer ສໍາລັບຂະບວນການຜູກມັດໂລຫະ (ຮັບປະກັນພື້ນຜິວທີ່ບໍ່ມີຂີ້ເຜີ້ງ) Semiconductor Wafer Dewaxing Solution ກອງປະຊຸມມາດຕະຖານຄວາມສະອາດສໍາລັບການຜະລິດ Crystal Optical ຕົວແທນ Wafer Dewaxing ທີ່ປະຫຍັດແລະເປັນມິດກັບສິ່ງແວດລ້ອມສໍາລັບການຜະລິດປະລິມານສູງ

ຂ່າວທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ເນື້ອຫາຫວ່າງເປົ່າ!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
ອີເມວ:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
ເວລາເປີດ:
ຈັນ. - ສຸກ. 9:00 - 18:00 ໂມງ
ກ່ຽວກັບພວກເຮົາ
ມັນ​ໄດ້​ຮັບ​ການ​ສຸມ​ໃສ່​ການ​ຜະ​ລິດ​ຕົວ​ແທນ​ສໍາ​ລັບ semiconductors ແລະ​ການ​ຜະ​ລິດ​ແລະ​ການ​ຄົ້ນ​ຄວ້າ​ແລະ​ການ​ພັດ​ທະ​ນາ​ເຄ​ມີ​ເອ​ເລັກ​ໂຕຣ​ນິກ​.
ຈອງ
ລົງທະບຽນສໍາລັບຈົດຫມາຍຂ່າວຂອງພວກເຮົາເພື່ອຮັບຂ່າວຫລ້າສຸດ.
ສະຫງວນລິຂະສິດ © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. ສະຫງວນລິຂະສິດທັງໝົດ. ແຜນຜັງເວັບໄຊທ໌ ນະໂຍບາຍຄວາມເປັນສ່ວນຕົວ