Alkaline Pre-Cleaner ສໍາລັບ DWS Solar Wafers

ຂໍ້ໄດ້ປຽບດ້ານວິຊາການຫຼັກ

1. ການຂັດຂີ້ເຫຍື້ອຢ່າງໄວວາ

ຂັບເຄື່ອນໂດຍລະບົບ surfactant ຂັ້ນສູງ, ມັນເຮັດໃຫ້ການລະລາຍຂອງກາວເຊື່ອມ ingot ທີ່ແຂງກະດ້າງຢ່າງໄວວາແລະທໍາລາຍນ້ໍາເຢັນທີ່ມີຄວາມຫນືດສູງທີ່ໃຊ້ໃນການຕັດ DWS ຄວາມໄວສູງ, ເຮັດໃຫ້ການຜະລິດທີ່ສູງຂຶ້ນ.

2. ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງສາຍທີ່ບໍ່ກົງກັນ & ການປົກປ້ອງ Nozzle

ມີປະສິດຕິຜົນ suspends ຝຸ່ນຊິລິໂຄນເພື່ອປ້ອງກັນການຕົກຕະກອນແລະ redeposition. ນີ້ກໍາຈັດການອຸດຕັນ nozzle ຢ່າງສົມບູນ, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຖີ່ຂອງການບໍາລຸງຮັກສາທີ່ບໍ່ໄດ້ວາງແຜນໄວ້ເຖິງ 30%.

3. ອຸປະກອນທີ່ບໍ່ມີຟລູອໍໄຣດ & ການປະຕິບັດຕາມນໍ້າເສຍ

ຮູບແບບທີ່ບໍ່ມີການກັດກ່ອນ, ບໍ່ມີ fluoride ປົກປ້ອງຖັງສະແຕນເລດແລະທໍ່ພາຍໃນ, ຍືດອາຍຸການບໍລິການຂອງເຄື່ອງມືທໍາຄວາມສະອາດອັດຕະໂນມັດໃນຂະນະທີ່ການຫຼຸດຜ່ອນຄວາມງ່າຍດາຍຂອງນ້ໍາເສຍກ່ອນການບໍາບັດ.

4. ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍປະສິດທິພາບການອາບນ້ໍາຍາວ

ຮັກສາປະສິດທິພາບການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ສອດຄ່ອງສໍາລັບອາຍຸການອາບນ້ໍາຍາວຂອງ 15-25 ມື້. ດ້ວຍການທົດແທນປົກກະຕິຂອງການແກ້ໄຂຫຼັກຊັບພຽງແຕ່ 0.5%-1.0%, ມັນຫຼຸດລົງການບໍລິໂພກສານເຄມີແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍທັງຫມົດຂອງການເປັນເຈົ້າຂອງ (TCO).

5. Ultra-Thin & ຮູບແບບຂະຫນາດໃຫຍ່ສະຫນັບສະຫນູນ

ຮູບແບບທີ່ອ່ອນໂຍນ, ຄວບຄຸມໄດ້ປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ເກີດຮອຍແຕກຂອງຈຸນລະພາກ ແລະຄວາມເສຍຫາຍຂອງພື້ນຜິວເທິງພື້ນຜິວທີ່ອ່ອນເພຍ, ບາງເບົາບາງທີ່ສຸດ (<150μm) ໃນລະຫວ່າງການທໍາຄວາມສະອາດດ້ວຍໄຟແສງຕາເວັນທີ່ມີຂະໜາດໃຫຍ່.

ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະຂອງ SPC-201A Alkaline Pre-Cleaner

ສະຖານະການແອັບພລິເຄຊັນ & ການເຊື່ອມໂຍງລະບົບ

1. ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກແບບດ່ຽວ

SPC-201A ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງເປັນເອກະລາດສໍາລັບຂະບວນການທີ່ບໍ່ຈໍາເປັນຕ້ອງມີລະບົບທໍາຄວາມສະອາດສອງຂັ້ນຕອນທີ່ສົມບູນ.

• PV Wafer Post-Slicing Rough Cleaning: ກຳຈັດສິ່ງປົນເປື້ອນທາງອິນຊີຢ່າງໜັກ ແລະຜົງຊິລິຄອນຫຼາຍຈາກ wafers ທີ່ເປັນການຕັດ, ເໝາະສຳລັບລູກຄ້າທີ່ໃຊ້ສານເຄມີທຳຄວາມສະອາດຂອງພາກສ່ວນທີສາມ ຫຼືມີຄວາມຕ້ອງການດ້ານຄຸນນະພາບຕ່ຳກວ່າ.

• PV Wafer Recycling ທີ່ໃຊ້ແລ້ວ: ກໍາຈັດສິ່ງເສດເຫຼືອທີ່ຕົກຄ້າງ ແລະສິ່ງປົນເປື້ອນຈາກເຄື່ອງເຄືອບດິນເຜົາທີ່ມີຄ່າໃຊ້ຈ່າຍຢ່າງມີປະສິດທິພາບ, ປັບປຸງປະສິດທິພາບການລີໄຊເຄີນ ແລະ ຫຼຸດຜ່ອນສິ່ງເສດເຫຼືອຂອງວັດສະດຸ.

• ການເຮັດຄວາມສະອາດກ່ອນການກວດກາ Wafer: ກະກຽມພື້ນຜິວ wafer ສໍາລັບການກວດກາສາຍຕາແລະໄຟຟ້າໂດຍການກໍາຈັດສິ່ງເສດເຫຼືອຂອງພື້ນຜິວ, ຮັບປະກັນການກວດສອບຂໍ້ບົກພ່ອງທີ່ຖືກຕ້ອງ.

2. ການເຊື່ອມໂຍງລະບົບສອງຂັ້ນຕອນ

ແນະນຳເປັນຂັ້ນຕອນທຳຄວາມສະອາດຂັ້ນຕົ້ນກ່ອນຂະບວນການສ້າງໂຄງສ້າງ.

• ລະບົບທໍາຄວາມສະອາດ PV Wafer ສອງຂັ້ນຕອນມາດຕະຖານ: ເມື່ອປະຕິບັດຕາມໂດຍ SPC-201B Weak Acid Fine Cleaner, ສະຫນອງການກໍາຈັດສິ່ງປົນເປື້ອນຢ່າງສົມບູນແລະການກະກຽມຫນ້າດິນທີ່ດີທີ່ສຸດສໍາລັບການສ້າງໂຄງສ້າງ, ສົ່ງຜົນໃຫ້ປະສິດທິພາບການແປງເຊນແສງຕາເວັນສູງຂຶ້ນ 0.3-0.5%.

ຂໍ້ແນະນຳການນຳໃຊ້ ແລະຄຳຖາມທີ່ຖືກຖາມເລື້ອຍໆ

ຄໍາແນະນໍາການດໍາເນີນງານທີ່ແນະນໍາ

• ອັດຕາສ່ວນການເຈືອຈາງ: 1:10 – 1:15 (ປະມານ 6% – 10% ຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນ)

• ອຸນຫະພູມເຮັດວຽກ: 35 – 55 ℃ (ແນະນໍາ: 45 ℃)

• ວິທີການທໍາຄວາມສະອາດ: Ultrasonic / Spray / Immersion

• ເວລາທໍາຄວາມສະອາດ: 4 – 8 ນາທີ

• rinsing: overflow rinsing ດ້ວຍນ້ໍາຊັ້ນ 2 ຫຼືສູງກວ່າ DI

• ການອົບແຫ້ງ: ການອົບແຫ້ງດ້ວຍໝຸນ ຫຼື ການອົບດ້ວຍອຸນຫະພູມຕ່ຳ (< 80 ℃)

ຫມາຍເຫດສໍາລັບການນໍາໃຊ້ແບບດ່ຽວ: SPC-201A ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ຫຍາບຄາຍແລະການກວດກາກ່ອນການເຮັດຄວາມສະອາດ. ສໍາລັບການກະກຽມໂຄງສ້າງ, ພວກເຮົາແນະນໍາໃຫ້ປະຕິບັດຕາມຂັ້ນຕອນການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ດີເພື່ອເອົາໂລຫະຮ່ອງຮອຍທີ່ຕົກຄ້າງ.

ຄຳຖາມທີ່ຖາມເລື້ອຍໆ (FAQs)

Q1: SPC-201A ເອົາສິ່ງປົນເປື້ອນຫຍັງອອກ?

A1: SPC-201A ໄດ້ຖືກສ້າງຂື້ນໂດຍສະເພາະເພື່ອເອົາສິ່ງປົນເປື້ອນໃນການຕັດອອກຢ່າງໜັກ ລວມທັງກາວເຊື່ອມ Ingot, ເຄື່ອງເຮັດຄວາມເຢັນສາຍເພັດ, ນ້ຳມັນເຄື່ອງ ແລະ ອະນຸພາກຝຸ່ນຊິລິຄອນ.

Q2: ແມ່ນ SPC-201A ປອດໄພສໍາລັບ 182mm / 210mm ແລະເກີນບາງ PV wafers?

A2: ແມ່ນແລ້ວ, ສູດອ່ອນໆຂອງມັນບໍ່ໄດ້ corrosive ປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ແຂບ chipping ແລະການແຕກແຍກຂອງ 130-180μm monocrystalline ບາງແລະ polycrystalline photovoltaic wafers ຊິລິຄອນ.

Q3: SPC-201A ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງດຽວບໍ?

A3: ແມ່ນແລ້ວ, SPC-201A ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງດຽວສໍາລັບການທໍາຄວາມສະອາດ rough, wafer ລີໄຊເຄີນແລະການກວດກາການທໍາຄວາມສະອາດກ່ອນ. ສໍາລັບຜົນໄດ້ຮັບທີ່ດີທີ່ສຸດຂອງໂຄງສ້າງ, ພວກເຮົາແນະນໍາໃຫ້ປະຕິບັດຕາມຂັ້ນຕອນການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ດີ.

Q4: ອັດຕາສ່ວນການເຈືອຈາງທີ່ແນະນໍາແລະອຸນຫະພູມປະຕິບັດງານແມ່ນຫຍັງ?

A4: ອັດຕາສ່ວນການເຈືອຈາງທີ່ແນະນໍາແມ່ນ 1:10–1:15, ແລະອຸນຫະພູມປະຕິບັດງານທີ່ດີທີ່ສຸດແມ່ນ 35–55℃ (45℃ ແນະນໍາສໍາລັບຜົນໄດ້ຮັບທີ່ດີທີ່ສຸດ).

Q5: SPC-201A ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ໃນສາຍການຜະລິດທີ່ມີປະລິມານສູງໃນອາຊີຕາເວັນອອກສຽງໃຕ້ບໍ?

A5: ແມ່ນແລ້ວ, ຮູບແບບທີ່ມີໂຟມຕ່ໍາແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອາບນ້ໍາຍາວເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບສາຍການຜະລິດອັດຕະໂນມັດທີ່ມີປະລິມານສູງຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງ.

Q6: ອາບນ້ໍາ SPC-201A ໃຊ້ໄດ້ດົນປານໃດ?

A6: ພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂການຜະລິດຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງ, ອາບນ້ໍາມັກຈະໃຊ້ເວລາ 15-25 ມື້. ການເຕີມເຕັມທີ່ປົກກະຕິຂອງການແກ້ໄຂຫຼັກຊັບ 0.5%-1.0% ທຸກໆ 8 ຊົ່ວໂມງຮັກສາປະສິດທິພາບທີ່ດີທີ່ສຸດ.