Alkaline Pre-Cleaner para sa DWS Solar Wafers

Mga Pangunahing Kalamangan sa Teknikal

1. Mabilis na Pagtanggal ng Contaminant

Pinapatakbo ng isang advanced na surfactant system, mabilis nitong natutunaw ang matigas na ingot bonding adhesives at sinisira ang mga high-viscosity cooling fluid na ginagamit sa high-speed DWS cutting, na nagbibigay-daan sa mas mataas na production throughput.

2. Walang kaparis na Line Stability at Nozzle Protection

Epektibong sinuspinde ang silicon powder upang maiwasan ang sedimentation at redeposition. Ito ay ganap na nag-aalis ng pagbara ng nozzle, na binabawasan ang hindi planadong dalas ng pagpapanatili ng hanggang 30%.

3. Fluoride-Free Equipment at Wastewater Compliance

Pinoprotektahan ng non-corrosive, fluoride-free formulation ang mga stainless steel tank at internal piping, na nagpapahaba sa buhay ng serbisyo ng mga automated cleaning tool habang makabuluhang pinapasimple ang wastewater pre-treatment.

4. Matipid sa Pagligo

Pinapanatili ang pare-parehong pagganap ng paglilinis para sa isang pinahabang buhay ng paliguan na 15-25 araw. Sa regular na muling pagdadagdag ng 0.5%-1.0% stock solution lamang, ito ay lubhang nagpapababa ng pagkonsumo ng kemikal at ang kabuuang halaga ng pagmamay-ari (TCO).

5. Suporta sa Ultra-Thin at Malaking Format

Pinipigilan ng banayad at kontroladong formulation ang mga micro-crack at pinsala sa ibabaw sa marupok, ultra-manipis na mga substrate (<150μm) sa panahon ng paglilinis ng high-throughput ng malalaking format na solar wafer.

Mga Teknikal na Pagtutukoy ng SPC-201A Alkaline Pre-Cleaner

Mga Sitwasyon ng Application at Pagsasama ng System

1. Standalone na Application

Ang SPC-201A ay maaaring gamitin nang nakapag-iisa para sa mga proseso na hindi nangangailangan ng kumpletong dalawang-hakbang na sistema ng paglilinis.

• PV Wafer Post-Slicing Rough Cleaning: Nag-aalis ng mabibigat na organikong contaminant at bulk silicon powder mula sa mga as-cut na wafer, perpekto para sa mga customer na gumagamit ng mga third-party na fine cleaning na kemikal o may mas mababang mga kinakailangan sa kalidad ng ibabaw.

• Nagamit na PV Wafer Recycling: Matipid na tinatanggal ang mga natitirang coatings at contaminants mula sa end-of-life solar wafers, pagpapabuti ng kahusayan sa pag-recycle at pagbabawas ng materyal na basura.

• Pre-Cleaning para sa Wafer Inspection: Inihahanda ang mga wafer surface para sa visual at electrical inspeksyon sa pamamagitan ng pag-alis ng mga debris sa ibabaw, na tinitiyak ang tumpak na pagtuklas ng depekto.

2. Two-Step na System Integration

Inirerekomenda bilang pangunahing hakbang sa paunang paglilinis bago ang proseso ng pag-texture.

• Standard Two-Step PV Wafer Cleaning System: Kapag sinundan ng SPC-201B Weak Acid Fine Cleaner, naghahatid ng kumpletong pag-alis ng kontaminant at pinakamainam na paghahanda sa ibabaw para sa pag-texture, na nagreresulta sa 0.3-0.5% na mas mataas na kahusayan sa conversion ng solar cell.

Mga Alituntunin sa Paggamit at FAQ

Inirerekomendang Gabay sa Operasyon

• Ratio ng Dilution: 1:10 – 1:15 (tinatayang 6% – 10% na konsentrasyon)

• Temperatura sa pagpapatakbo: 35 – 55 ℃ (Inirerekomenda: 45 ℃)

• Paraan ng Paglilinis: Ultrasonic / Spray / Immersion

• Oras ng Paglilinis: 4 – 8 minuto

• Pagbanlaw: Overflow na pagbabanlaw gamit ang Grade 2 o mas mataas na DI water

• Pagpapatuyo: Spin drying o low-temperature drying (< 80℃)

Tandaan para sa standalone na paggamit: Ang SPC-201A ay angkop para sa magaspang na paglilinis at inspeksyon bago ang paglilinis. Para sa paghahanda ng texturing, inirerekumenda namin ang pagsunod sa isang mahusay na hakbang sa paglilinis upang alisin ang mga natitirang bakas na metal.

Mga Madalas Itanong (FAQs)

Q1: Anong mga contaminant ang inaalis ng SPC-201A?

A1: Ang SPC-201A ay partikular na binuo upang alisin ang mga mabibigat na kontaminado sa paghiwa kabilang ang Ingot bonding adhesives, diamond wire coolant, machining oil at bulk silicon powder particle.

Q2: Ligtas ba ang SPC-201A para sa 182mm/210mm at higit pa sa manipis na PV wafers?

A2: Oo, pinipigilan ng banayad na non-corrosive na formula nito ang pag-chip at pagkasira ng gilid ng 130-180μm na manipis na monocrystalline at polycrystalline photovoltaic silicon wafers.

Q3: Maaari bang gamitin ang SPC-201A nang mag-isa?

A3: Oo, ang SPC-201A ay maaaring gamitin nang mag-isa para sa magaspang na paglilinis, pag-recycle ng wafer at inspeksyon bago ang paglilinis. Para sa pinakamainam na resulta ng pag-texture, inirerekumenda namin ang pagsunod sa isang mahusay na hakbang sa paglilinis.

Q4: Ano ang inirerekomendang ratio ng dilution at operating temperature?

A4: Ang inirerekomendang ratio ng dilution ay 1:10–1:15, at ang pinakamainam na operating temperature ay 35–55℃ (45℃ inirerekomenda para sa pinakamahusay na mga resulta).

Q5: Maaari bang gamitin ang SPC-201A sa mataas na dami ng mga linya ng produksyon sa Southeast Asia?

A5: Oo, ang low-foaming formulation nito at long bath stability ay ginagawa itong perpekto para sa tuluy-tuloy na high-volume automated production lines.

Q6: Gaano katagal ang paliguan ng SPC-201A?

A6: Sa ilalim ng tuluy-tuloy na mga kondisyon ng produksyon, ang paliguan ay karaniwang tumatagal ng 15–25 araw. Ang regular na muling pagdadagdag ng 0.5%–1.0% stock solution kada 8 oras ay nagpapanatili ng pinakamainam na performance.