Du är här: Hem / Produkter / Industriell rengöringsmedel / Vattenbaserade rengöringsmedel / Alkaline Pre-Cleaner för DWS Solar Wafers

belastning

Alkaline Pre-Cleaner för DWS Solar Wafers

Det är en högpresterande alkalisk förrenare speciellt framtagen för DWS-solskivor, som tar bort tunga götbindningslim och kylmedel för att säkerställa maximal produktionstid.

Fördelar:
  • Snabb borttagning av lim med göt
  • DWS Kylvätskedispersion
  • Avancerat stöd för storformat
  • Ultratunt substratskydd
  • Förebyggande av igensättning av munstycken
  • Avloppsvattenkompatibel (fluoridfri)
     
Förpackningsenheter: 25L/fat, 200L/fat, 1000L/fat
Tillgänglighet:
Kvantitet:
Facebook delningsknapp
twitter delningsknapp
linjedelningsknapp
wechat delningsknapp
linkedin delningsknapp
pinterest delningsknapp
whatsapp delningsknapp
kakao delningsknapp
snapchat delningsknapp
telegramdelningsknapp
dela den här delningsknappen
  • SPC-201A

  • Yuanan

Produktöversikt: SPC-201A Alkaline Pre-Cleaner

SPC-201A är en specialiserad, vattenbaserad svag alkalisk förrenare konstruerad för avancerade storformats- och ultratunna solskivor i moderna processer för diamanttrådsågning (DWS). Formulerad med ett milt alkaliskt system och avancerad dispersionsteknik, avlägsnar den effektivt kvarvarande götbindande lim och koncentrerade kylmedel utan att överetsa de ömtåliga substraten. Genom att ta bort 99 % av tunga organiska föroreningar i förrengöringsstadiet förhindrar SPC-201A allvarliga munstycken igensättningar i produktionslinjer med stora volymer och ger en orörd grund för efterföljande finrengörings- och textureringsprocesser.

Kärntekniska fördelar

1. Snabb borttagning av föroreningar

Drivs av ett avancerat ytaktivt system, löser den snabbt upp envisa götbindande lim och bryter ner de högviskösa kylvätskor som används vid höghastighets DWS-skärning, vilket möjliggör högre produktionsgenomströmning.

2. Oöverträffad linjestabilitet och munstyckesskydd

Suspenderar effektivt kiselpulver för att förhindra sedimentering och återavsättning. Detta eliminerar helt blockering av munstycket, vilket minskar oplanerat underhållsfrekvens med upp till 30 %.

3. Fluorfri utrustning och avloppsvatten

Den icke-korrosiva, fluorfria formuleringen skyddar rostfria ståltankar och inre rörledningar, förlänger livslängden för automatiserade rengöringsverktyg samtidigt som det avsevärt förenklar förbehandlingen av avloppsvatten.

4. Kostnadseffektivt badlivslängd

Bibehåller jämn rengöringsprestanda för en förlängd badlivslängd på 15-25 dagar. Med rutinmässig påfyllning av endast 0,5%-1,0% stamlösning, sänker det drastiskt kemikalieförbrukningen och den totala ägandekostnaden (TCO).

5. Stöd för ultratunt och stort format

Den milda, kontrollerade formuleringen förhindrar mikrosprickor och ytskador på ömtåliga, ultratunna substrat (<150 μm) under högeffektiv rengöring av solskivor i storformat.

Tekniska specifikationer för SPC-201A Alkaline Pre-Cleaner

Grundläggande parametrar

Produktmodell

SPC-201A

Utseende

Klar vätska

pH (arbetslösning)

9,3 – 9,7

Spädningsförhållande

1:10 – 1:15 (6 % – 10 % koncentration)

Flampunkt

Ej brandfarlig

Prestandaparametrar

Tillämpliga substrat

Monokristallina/polykristallina PV-skivor

Wafer Specifikationer

Storformat (182/210 mm+), ultratunt (<150 μm)

Driftstemperatur

35 – 55 ℃ (rekommenderas: 45 ℃)

Städtid

4-8 minuter

Badbytescykel

15 – 25 dagar (kontinuerlig produktion)

Efterlevnadstillägg

Fluorfri, icke-frätande formulering

Applikationsscenarier och systemintegration

1. Fristående applikation

SPC-201A kan användas oberoende för processer som inte kräver ett komplett rengöringssystem i två steg.

  • PV Wafer Post-Slicing Grovrengöring: Tar bort tunga organiska föroreningar och bulk kiselpulver från skurna wafers, idealiskt för kunder som använder fina rengöringskemikalier från tredje part eller som har lägre krav på ytkvalitet.

  • Återvinning av begagnad PV-wafer: Avlägsnar kostnadseffektivt kvarvarande beläggningar och föroreningar från uttjänta solskivor, förbättrar återvinningseffektiviteten och minskar materialspill.

  • Förrengöring för waferinspektion: Förbereder waferytor för visuell och elektrisk inspektion genom att ta bort ytskräp, vilket säkerställer noggrann detektering av defekter.

2. Tvåstegs systemintegration

Rekommenderas som det primära förrengöringssteget före textureringsprocessen.

  • Standard tvåstegs PV Wafer-rengöringssystem: När det följs av SPC-201B Weak Acid Fine Cleaner, levererar det fullständigt avlägsnande av föroreningar och optimal ytförberedelse för texturering, vilket resulterar i 0,3-0,5 % högre solcellskonverteringseffektivitet.

Riktlinjer för användning och vanliga frågor

Rekommenderad bruksanvisning

  • Spädningsförhållande: 1:10 – 1:15 (ca 6 % – 10 % koncentration)

  • Driftstemperatur: 35 – 55 ℃ (rekommenderas: 45 ℃)

  • Rengöringsmetod: Ultraljud / Spray / Nedsänkning

  • Rengöringstid: 4 – 8 minuter

  • Sköljning: Bräddsköljning med grad 2 eller högre DI-vatten

  • Torkning: Centrifugering eller lågtemperaturtorkning (< 80 ℃)

Anmärkning för fristående användning: SPC-201A är lämplig för grovrengöring och inspektionsförrengöring. För texturförberedelse rekommenderar vi att du följer ett fint rengöringssteg för att avlägsna rester av spårmetaller.

Vanliga frågor (FAQs)

F1: Vilka föroreningar tar SPC-201A bort?

A1: SPC-201A är speciellt formulerad för att ta bort tunga skärande föroreningar, inklusive götbindningslim, diamanttrådskylmedel, bearbetningsoljor och kiselpulverpartiklar i bulk.

F2: Är SPC-201A säker för 182 mm/210 mm och längre tunna PV-skivor?

A2: Ja, dess milda icke-korrosiva formel förhindrar kantflisning och brott på 130-180μm tunna monokristallina och polykristallina fotovoltaiska kiselskivor.

F3: Kan SPC-201A användas ensam?

S3: Ja, SPC-201A kan användas ensamt för grovrengöring, återvinning av skivor och inspektionsförrengöring. För optimala textureringsresultat rekommenderar vi att du följer ett fint rengöringssteg.

F4: Vad är det rekommenderade utspädningsförhållandet och driftstemperaturen?

A4: Det rekommenderade utspädningsförhållandet är 1:10–1:15, och den optimala driftstemperaturen är 35–55 ℃ (45 ℃ rekommenderas för bästa resultat).

F5: Kan SPC-201A användas i produktionslinjer med stora volymer i Sydostasien?

A5: Ja, dess lågskummande formulering och långa badstabilitet gör den idealisk för kontinuerliga automatiserade produktionslinjer med stora volymer.

F6: Hur länge håller SPC-201A-badet?

A6: Under kontinuerliga produktionsförhållanden varar badet vanligtvis 15–25 dagar. Rutinmässig påfyllning av 0,5 %–1,0 % stamlösning var 8:e timme bibehåller optimal prestanda.

Tidigare: 
Nästa: 

Relaterade nyheter

innehållet är tomt!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-post:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Öppettider:
mån. - Fre. 9:00 - 18:00
Om oss
Man har fokuserat på tillverkning av medel för halvledare och produktion och forskning och utveckling av elektroniska kemikalier.
Prenumerera
Anmäl dig till vårt nyhetsbrev för att få de senaste nyheterna.
Copyright © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Med ensamrätt. Webbplatskarta Sekretesspolicy