Pre-filtro alcalino per wafer solari DWS

Principali vantaggi tecnici

1. Rimozione rapida dei contaminanti

Alimentato da un sistema tensioattivo avanzato, dissolve rapidamente gli adesivi ostinati che incollano i lingotti e scompone i fluidi di raffreddamento ad alta viscosità utilizzati nel taglio DWS ad alta velocità, consentendo una maggiore produttività.

2. Stabilità della linea e protezione degli ugelli senza pari

Sospende efficacemente la polvere di silicio per prevenire la sedimentazione e la rideposizione. Ciò elimina completamente il blocco degli ugelli, riducendo la frequenza di manutenzione non pianificata fino al 30%.

3. Conformità delle apparecchiature prive di fluoro e delle acque reflue

La formulazione non corrosiva e priva di fluoro protegge i serbatoi in acciaio inossidabile e le tubazioni interne, prolungando la durata degli strumenti di pulizia automatizzati e semplificando notevolmente il pretrattamento delle acque reflue.

4. Longevità del bagno economicamente vantaggiosa

Mantiene prestazioni di pulizia costanti per una durata del bagno prolungata di 15-25 giorni. Con il rifornimento di routine di solo lo 0,5%-1,0% di soluzione madre, riduce drasticamente il consumo di prodotti chimici e il costo totale di proprietà (TCO).

5. Supporto per formati ultrasottili e di grandi dimensioni

La formulazione delicata e controllata previene microfessure e danni superficiali su substrati fragili e ultrasottili (<150μm) durante la pulizia ad alto rendimento di wafer solari di grande formato.

Specifiche tecniche del prefiltro alcalino SPC-201A

Scenari applicativi e integrazione di sistema

1. Applicazione autonoma

SPC-201A può essere utilizzato in modo indipendente per processi che non richiedono un sistema di pulizia completo in due fasi.

• Pulizia approssimativa post-affettatura dei wafer fotovoltaici: rimuove i contaminanti organici pesanti e la polvere di silicio sfusa dai wafer tagliati, ideale per i clienti che utilizzano prodotti chimici per la pulizia fine di terze parti o hanno requisiti di qualità della superficie inferiori.

• Riciclaggio dei wafer fotovoltaici usati: rimuove in modo economicamente vantaggioso i rivestimenti residui e i contaminanti dai wafer solari a fine vita, migliorando l'efficienza del riciclaggio e riducendo gli sprechi di materiale.

• Pre-pulizia per l'ispezione dei wafer: prepara le superfici dei wafer per l'ispezione visiva ed elettrica rimuovendo i detriti superficiali, garantendo un rilevamento accurato dei difetti.

2. Integrazione del sistema in due fasi

Consigliato come fase di pre-pulizia primaria prima del processo di testurizzazione.

• Sistema di pulizia standard dei wafer fotovoltaici in due fasi: se seguito dal detergente fine per acidi deboli SPC-201B, fornisce la rimozione completa dei contaminanti e una preparazione ottimale della superficie per la testurizzazione, con conseguente efficienza di conversione delle celle solari superiore dello 0,3-0,5%.

Linee guida per l'utilizzo e domande frequenti

Guida operativa consigliata

• Rapporto di diluizione: 1:10 – 1:15 (concentrazione circa 6% – 10%)

• Temperatura operativa: 35 – 55 ℃ (consigliata: 45 ℃)

• Metodo di pulizia: ultrasuoni/spruzzo/immersione

• Tempo di pulizia: 4 – 8 minuti

• Risciacquo: risciacquo del troppo pieno con acqua DI grado 2 o superiore

• Asciugatura: centrifuga o asciugatura a bassa temperatura (< 80 ℃)

Nota per l'uso autonomo: SPC-201A è adatto per la pulizia grossolana e la pre-pulizia di ispezione. Per la preparazione della testurizzazione, si consiglia di procedere con una fase di pulizia fine per rimuovere tracce di metalli residui.

Domande frequenti (FAQ)

D1: Quali contaminanti rimuove SPC-201A?

R1: SPC-201A è specificamente formulato per rimuovere contaminanti pesanti da taglio, tra cui adesivi per l'incollaggio di lingotti, refrigeranti per fili diamantati, oli per lavorazione e particelle di polvere di silicio sfuso.

D2: SPC-201A è sicuro per wafer FV sottili da 182 mm/210 mm e oltre?

R2: Sì, la sua formula delicata e non corrosiva previene la scheggiatura dei bordi e la rottura dei sottili wafer di silicio fotovoltaico monocristallino e policristallino da 130-180μm.

Q3: SPC-201A può essere utilizzato da solo?

R3: Sì, SPC-201A può essere utilizzato da solo per la pulizia grossolana, il riciclaggio dei wafer e la pre-pulizia di ispezione. Per risultati di texture ottimali, si consiglia di procedere con una fase di pulizia fine.

Q4: Qual è il rapporto di diluizione e la temperatura operativa consigliati?

R4: Il rapporto di diluizione consigliato è 1:10–1:15 e la temperatura operativa ottimale è 35–55℃ (45℃ consigliati per ottenere i migliori risultati).

D5: SPC-201A può essere utilizzato in linee di produzione ad alto volume nel sud-est asiatico?

R5: Sì, la sua formulazione a bassa formazione di schiuma e la lunga stabilità del bagno lo rendono ideale per linee di produzione automatizzate continue ad alto volume.

Q6: Quanto dura il bagno SPC-201A?

R6: In condizioni di produzione continua, il bagno dura generalmente 15–25 giorni. Il rifornimento di routine della soluzione madre allo 0,5%–1,0% ogni 8 ore mantiene le prestazioni ottimali.