สารทำความสะอาดล่วงหน้าอัลคาไลน์สำหรับ DWS Solar Wafers

ข้อได้เปรียบทางเทคนิคหลัก

1. การปอกสิ่งปนเปื้อนอย่างรวดเร็ว

ขับเคลื่อนโดยระบบลดแรงตึงผิวขั้นสูง โดยจะละลายกาวยึดติดแท่งโลหะแข็งได้อย่างรวดเร็ว และสลายของเหลวหล่อเย็นที่มีความหนืดสูงที่ใช้ในการตัด DWS ความเร็วสูง ทำให้ปริมาณการผลิตสูงขึ้น

2. ความเสถียรของเส้นและการป้องกันหัวฉีดที่ไม่มีใครเทียบ

ระงับผงซิลิกอนอย่างมีประสิทธิภาพเพื่อป้องกันการตกตะกอนและการสะสมใหม่ ซึ่งช่วยลดการอุดตันของหัวฉีดได้อย่างสมบูรณ์ ลดความถี่ในการบำรุงรักษาโดยไม่ได้วางแผนได้ถึง 30%

3. การปฏิบัติตามข้อกำหนดอุปกรณ์ปลอดฟลูออไรด์และน้ำเสีย

สูตรที่ไม่กัดกร่อนและปราศจากฟลูออไรด์ช่วยปกป้องถังสแตนเลสและท่อภายใน ช่วยยืดอายุการใช้งานของเครื่องมือทำความสะอาดอัตโนมัติ ในขณะเดียวกันก็ทำให้การบำบัดน้ำเสียเบื้องต้นง่ายขึ้นอย่างมาก

4. การอาบน้ำให้มีอายุยืนยาวอย่างคุ้มค่า

คงประสิทธิภาพการทำความสะอาดที่สม่ำเสมอเพื่อยืดอายุการอาบน้ำ 15-25 วัน ด้วยการเติมสารละลายสต็อกเพียง 0.5%-1.0% เป็นประจำ จึงช่วยลดการใช้สารเคมีและต้นทุนรวมในการเป็นเจ้าของ (TCO) ได้อย่างมาก

5. รองรับรูปแบบบางเฉียบและขนาดใหญ่

สูตรอ่อนโยนที่ได้รับการควบคุมช่วยป้องกันรอยแตกร้าวขนาดเล็กและความเสียหายของพื้นผิวบนพื้นผิวที่เปราะบางและบางเป็นพิเศษ (<150μm) ในระหว่างการทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์พลังงานแสงอาทิตย์ขนาดใหญ่ที่มีปริมาณงานสูง

ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิคของน้ำยาทำความสะอาดเบื้องต้นแบบอัลคาไลน์ SPC-201A

สถานการณ์การใช้งานและการบูรณาการระบบ

1. แอปพลิเคชันแบบสแตนด์อโลน

SPC-201A สามารถใช้แยกกันสำหรับกระบวนการที่ไม่จำเป็นต้องมีระบบทำความสะอาดสองขั้นตอนที่สมบูรณ์

• การทำความสะอาดหยาบหลังการตัดแผ่นเวเฟอร์ PV: ขจัดสิ่งปนเปื้อนอินทรีย์หนักและผงซิลิกอนจำนวนมากออกจากแผ่นเวเฟอร์แบบตัด เหมาะสำหรับลูกค้าที่ใช้สารเคมีทำความสะอาดแบบละเอียดของบริษัทอื่น หรือมีข้อกำหนดด้านคุณภาพพื้นผิวที่ต่ำกว่า

• การรีไซเคิลแผ่นเวเฟอร์ PV ที่ใช้แล้ว: ขจัดสารเคลือบและสิ่งปนเปื้อนที่ตกค้างออกจากแผ่นเวเฟอร์พลังงานแสงอาทิตย์ที่หมดอายุการใช้งานอย่างคุ้มค่า ปรับปรุงประสิทธิภาพการรีไซเคิลและลดการสูญเสียวัสดุ

• การทำความสะอาดล่วงหน้าสำหรับการตรวจสอบแผ่นเวเฟอร์: เตรียมพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์สำหรับการตรวจสอบด้วยภาพและทางไฟฟ้าโดยการขจัดเศษบนพื้นผิว เพื่อให้มั่นใจว่าการตรวจจับข้อบกพร่องจะแม่นยำ

2. การรวมระบบสองขั้นตอน

แนะนำให้ใช้เป็นขั้นตอนการทำความสะอาดเบื้องต้นก่อนกระบวนการเท็กซ์เจอร์

• ระบบทำความสะอาด PV Wafer แบบสองขั้นตอนมาตรฐาน: เมื่อตามด้วย SPC-201B Weak Acid Fine Cleaner จะช่วยกำจัดสิ่งปนเปื้อนได้อย่างสมบูรณ์และเตรียมพื้นผิวที่เหมาะสมที่สุดสำหรับการสร้างพื้นผิว ส่งผลให้ประสิทธิภาพการแปลงเซลล์แสงอาทิตย์สูงขึ้น 0.3-0.5%

แนวทางการใช้งานและคำถามที่พบบ่อย

คู่มือการใช้งานที่แนะนำ

• อัตราส่วนเจือจาง: 1:10 – 1:15 (ความเข้มข้นประมาณ 6% – 10%)

• อุณหภูมิในการทำงาน: 35 – 55°C (แนะนำ: 45°C)

• วิธีทำความสะอาด: อัลตราโซนิก / สเปรย์ / การแช่

• เวลาทำความสะอาด: 4 – 8 นาที

• การล้าง: การล้างน้ำล้นด้วยน้ำ DI เกรด 2 หรือสูงกว่า

• การอบแห้ง: การปั่นแห้งหรือการอบแห้งที่อุณหภูมิต่ำ (< 80 ℃)

หมายเหตุสำหรับการใช้งานแบบสแตนด์อโลน: SPC-201A เหมาะสำหรับการทำความสะอาดหยาบและการตรวจสอบการทำความสะอาดล่วงหน้า สำหรับการเตรียมพื้นผิว เราแนะนำให้ทำตามขั้นตอนการทำความสะอาดอย่างละเอียดเพื่อขจัดเศษโลหะที่ตกค้าง

คำถามที่พบบ่อย (FAQ)

คำถามที่ 1: SPC-201A กำจัดสิ่งปนเปื้อนอะไรบ้าง

A1: SPC-201A ได้รับการกำหนดสูตรมาโดยเฉพาะเพื่อขจัดสิ่งปนเปื้อนที่เกิดจากการตัดเฉือนอย่างหนัก รวมถึงกาวยึดติดแบบแท่ง สารหล่อเย็นแบบลวดเพชร น้ำมันสำหรับเครื่องจักร และอนุภาคผงซิลิกอนจำนวนมาก

คำถามที่ 2: SPC-201A ปลอดภัยสำหรับเวเฟอร์ PV ขนาด 182 มม./210 มม. และมากกว่านั้นหรือไม่

A2: ใช่ สูตรที่ไม่กัดกร่อนเล็กน้อยช่วยป้องกันการบิ่นและการแตกหักของเวเฟอร์ซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์และโพลีคริสตัลไลน์โฟโตโวลตาอิกขนาดบาง 130-180μm

คำถามที่ 3: SPC-201A สามารถใช้คนเดียวได้หรือไม่

A3: ได้ สามารถใช้ SPC-201A เพียงอย่างเดียวในการทำความสะอาดหยาบ การรีไซเคิลแผ่นเวเฟอร์ และการตรวจสอบการทำความสะอาดล่วงหน้า เพื่อผลลัพธ์พื้นผิวที่ดีที่สุด เราแนะนำให้ทำตามขั้นตอนการทำความสะอาดอย่างละเอียด

คำถามที่ 4: อัตราส่วนเจือจางและอุณหภูมิในการทำงานที่แนะนำคือเท่าใด

A4: อัตราส่วนเจือจางที่แนะนำคือ 1:10–1:15 และอุณหภูมิในการทำงานที่เหมาะสมคือ 35–55°C (แนะนำ 45° เพื่อผลลัพธ์ที่ดีที่สุด)

คำถามที่ 5: SPC-201A สามารถใช้ในสายการผลิตปริมาณมากในเอเชียตะวันออกเฉียงใต้ได้หรือไม่

A5: ใช่ สูตรที่มีฟองต่ำและความเสถียรในการอาบน้ำที่ยาวนาน ทำให้เหมาะสำหรับสายการผลิตอัตโนมัติที่มีปริมาณมากอย่างต่อเนื่อง

คำถามที่ 6: อ่าง SPC-201A ใช้งานได้นานเท่าใด

A6: ภายใต้สภาวะการผลิตที่ต่อเนื่อง โดยทั่วไปการอาบน้ำจะใช้เวลา 15–25 วัน การเติมสารละลายสต็อก 0.5%–1.0% เป็นประจำทุกๆ 8 ชั่วโมงจะรักษาประสิทธิภาพสูงสุดไว้