| Elérhetőség: | |
|---|---|
| Mennyiség: | |
SPC-201A
Yuanan
Az SPC-201A egy speciális, vízbázisú gyengén lúgos előtisztító, amelyet fejlett nagy formátumú és ultravékony szoláris lapkákhoz terveztek a modern gyémánthuzalfűrészelési (DWS) eljárásokban. Enyhén lúgos rendszerrel és fejlett diszperziós technológiával készült, hatékonyan eltávolítja a visszamaradt tuskóragasztókat és koncentrált hűtőfolyadékokat anélkül, hogy túlmaratná a törékeny felületeket. A nehéz szerves szennyeződések 99%-ának az előtisztítási szakaszban történő eltávolításával az SPC-201A megakadályozza a fúvókák súlyos eltömődését a nagy volumenű gyártósorokon, és tiszta alapot biztosít a későbbi finom tisztítási és textúrázási folyamatokhoz.
Fejlett felületaktív rendszerének köszönhetően gyorsan feloldja a makacs tömbkötő ragasztókat, és lebontja a nagy sebességű DWS-vágásnál használt nagy viszkozitású hűtőfolyadékokat, ami nagyobb termelési teljesítményt tesz lehetővé.
Hatékonyan szuszpendálja a szilíciumport, hogy megakadályozza az ülepedést és az újralerakódást. Ez teljesen kiküszöböli a fúvókák eltömődését, és akár 30%-kal csökkenti a nem tervezett karbantartási gyakoriságot.
A nem korrozív, fluormentes készítmény védi a rozsdamentes acél tartályokat és a belső csöveket, meghosszabbítva az automatizált tisztítószerszámok élettartamát, miközben jelentősen leegyszerűsíti a szennyvíz előkezelését.
Folyamatos tisztítási teljesítményt biztosít a fürdő 15-25 napos élettartamának meghosszabbítása érdekében. A mindössze 0,5%-1,0%-os törzsoldat rutinszerű utánpótlásával drasztikusan csökkenti a vegyszerfelhasználást és a teljes birtoklási költséget (TCO).
Az enyhe, ellenőrzött összetétel megakadályozza a mikrorepedések és a felületi sérülések kialakulását a törékeny, ultravékony felületeken (<150 μm) a nagy formátumú napelemlapkák nagy teljesítményű tisztítása során.
Alapparaméterek |
|
Termékmodell |
SPC-201A |
Megjelenés |
Tiszta folyadék |
pH (munkaoldat) |
9,3 – 9,7 |
Hígítási arány |
1:10 – 1:15 (6% - 10% koncentráció) |
Lobbanáspont |
Nem gyúlékony |
Teljesítményparaméterek |
|
Alkalmazható szubsztrátumok |
Monokristályos/polikristályos PV ostyák |
Az ostya specifikációi |
Nagy formátumú (182/210 mm+), ultravékony (<150 μm) |
Üzemi hőmérséklet |
35 – 55 ℃ (ajánlott: 45 ℃) |
Tisztítási idő |
4-8 perc |
Fürdőkádcsere ciklus |
15-25 nap (folyamatos gyártás) |
Megfelelőségi kiegészítés |
Fluoridmentes, nem korrozív készítmény |
Az SPC-201A önállóan használható olyan folyamatokhoz, amelyek nem igényelnek teljes, kétlépcsős tisztítórendszert.
PV Wafer szeletelés utáni durva tisztítás: Eltávolítja a nehéz szerves szennyeződéseket és az ömlesztett szilíciumport a vágott ostyákról, ideális olyan ügyfelek számára, akik harmadik féltől származó finomtisztító vegyszereket használnak, vagy alacsonyabb felületminőségi követelményekkel rendelkeznek.
Használt PV lapkák újrahasznosítása: Költséghatékonyan távolítja el a visszamaradó bevonatokat és szennyeződéseket az elhasználódott napelem lapkákról, javítva az újrahasznosítás hatékonyságát és csökkentve az anyagpazarlást.
Előtisztítás az ostya ellenőrzéséhez: A felületi törmelék eltávolításával előkészíti az ostyafelületeket a vizuális és elektromos ellenőrzésre, így biztosítva a pontos hibaészlelést.
Elsődleges előtisztítási lépésként javasolt a textúrázási folyamat előtt.
Szabványos kétlépcsős PV ostyatisztító rendszer: Ha az SPC-201B gyenge savas finomtisztítót követi, teljes szennyeződéseltávolítást és optimális felület-előkészítést biztosít a textúrához, ami 0,3-0,5%-kal magasabb napelem-átalakítási hatékonyságot eredményez.
Hígítási arány: 1:10 - 1:15 (kb. 6% - 10% koncentráció)
Üzemi hőmérséklet: 35 – 55 ℃ (ajánlott: 45 ℃)
Tisztítási módszer: ultrahangos / spray / merítés
Tisztítási idő: 4-8 perc
Öblítés: Túlfolyó öblítés 2. fokozatú vagy magasabb DI vízzel
Szárítás: centrifugálás vagy alacsony hőmérsékletű szárítás (< 80 ℃)
Megjegyzés az önálló használathoz: Az SPC-201A alkalmas durva tisztításra és ellenőrzési előtisztításra. A textúra előkészítéséhez javasoljuk, hogy kövesse a finom tisztítási lépést a maradék fémnyomok eltávolítására.
1. kérdés: Milyen szennyeződéseket távolít el az SPC-201A?
A1: Az SPC-201A kifejezetten a nehéz szeletelési szennyeződések eltávolítására lett kifejlesztve, beleértve az öntvényes ragasztóanyagokat, a gyémánthuzal hűtőfolyadékait, a megmunkálási olajokat és az ömlesztett szilíciumpor részecskéket.
2. kérdés: Biztonságos az SPC-201A a 182 mm-es/210 mm-es és ennél nagyobb vékony PV lapkákhoz?
V2: Igen, enyhe, nem korrozív összetétele megakadályozza a 130-180 μm vékony monokristályos és polikristályos fotovoltaikus szilícium lapkák élek betörését és törését.
3. kérdés: Használható az SPC-201A önmagában?
A3: Igen, az SPC-201A önmagában is használható durva tisztításhoz, ostya-újrahasznosításhoz és ellenőrzési előtisztításhoz. Az optimális textúrázási eredmény érdekében javasoljuk, hogy kövesse a finom tisztítási lépést.
4. kérdés: Mi az ajánlott hígítási arány és üzemi hőmérséklet?
A4: Az ajánlott hígítási arány 1:10–1:15, az optimális működési hőmérséklet pedig 35–55 ℃ (a legjobb eredmény érdekében 45 ℃ ajánlott).
5. kérdés: Használható-e az SPC-201A délkelet-ázsiai nagy mennyiségű gyártósorokon?
A5: Igen, alacsony habzású összetétele és hosszú fürdőstabilitása ideálissá teszi a folyamatos, nagy mennyiségű automatizált gyártósorokhoz.
6. kérdés: Mennyi ideig tart az SPC-201A fürdő?
A6: Folyamatos gyártási körülmények között a fürdő jellemzően 15-25 napig tart. A 0,5–1,0%-os törzsoldat 8 óránkénti rutin utánpótlása fenntartja az optimális teljesítményt.
a tartalom üres!