Pré-limpador alcalino para wafers solares DWS

Principais vantagens técnicas

1. Remoção rápida de contaminantes

Alimentado por um sistema surfactante avançado, ele dissolve rapidamente adesivos teimosos de colagem de lingotes e decompõe os fluidos de resfriamento de alta viscosidade usados ​​no corte DWS de alta velocidade, permitindo maior rendimento de produção.

2. Estabilidade de linha e proteção de bico incomparáveis

Suspende efetivamente o pó de silício para evitar sedimentação e redeposição. Isto elimina completamente o bloqueio dos bicos, reduzindo a frequência de manutenção não planejada em até 30%.

3. Equipamentos livres de flúor e conformidade com águas residuais

A formulação não corrosiva e sem flúor protege tanques de aço inoxidável e tubulações internas, prolongando a vida útil das ferramentas de limpeza automatizadas e simplificando significativamente o pré-tratamento de águas residuais.

4. Longevidade do banho com boa relação custo-benefício

Mantém um desempenho de limpeza consistente para uma vida útil prolongada do banho de 15 a 25 dias. Com reposição de rotina de apenas 0,5%-1,0% de solução estoque, reduz drasticamente o consumo de produtos químicos e o custo total de propriedade (TCO).

5. Suporte ultrafino e de grande formato

A formulação suave e controlada evita microfissuras e danos superficiais em substratos frágeis e ultrafinos (<150 μm) durante a limpeza de alto rendimento de wafers solares de grande formato.

Especificações Técnicas do Pré-Limpador Alcalino SPC-201A

Cenários de aplicativos e integração de sistemas

1. Aplicativo independente

O SPC-201A pode ser usado de forma independente para processos que não requerem um sistema completo de limpeza em duas etapas.

• Limpeza áspera pós-corte de wafer PV: Remove contaminantes orgânicos pesados ​​e pó de silício a granel de wafers cortados, ideal para clientes que usam produtos químicos de limpeza fina de terceiros ou têm requisitos de qualidade de superfície mais baixos.

• Reciclagem de wafer fotovoltaico usado: remove de maneira econômica revestimentos residuais e contaminantes de wafers solares em fim de vida, melhorando a eficiência da reciclagem e reduzindo o desperdício de material.

• Pré-limpeza para inspeção de wafer: Prepara as superfícies do wafer para inspeção visual e elétrica, removendo detritos da superfície, garantindo a detecção precisa de defeitos.

2. Integração de sistema em duas etapas

Recomendado como etapa primária de pré-limpeza antes do processo de texturização.

• Sistema padrão de limpeza de wafer fotovoltaico em duas etapas: Quando seguido pelo limpador fino de ácido fraco SPC-201B, proporciona remoção completa de contaminantes e preparação ideal da superfície para texturização, resultando em eficiência de conversão de células solares 0,3-0,5% maior.

Diretrizes de uso e perguntas frequentes

Guia de operação recomendado

• Proporção de diluição: 1:10 – 1:15 (aproximadamente 6% – 10% de concentração)

• Temperatura operacional: 35 – 55°C (Recomendado: 45°C)

• Método de limpeza: ultrassônico/spray/imersão

• Tempo de limpeza: 4 - 8 minutos

• Enxágue: Enxágue por transbordamento com água DI de grau 2 ou superior

• Secagem: Centrifugação ou secagem em baixa temperatura (<80°C)

Nota para uso independente: SPC-201A é adequado para limpeza áspera e pré-limpeza de inspeção. Para a preparação da texturização, recomendamos seguir com uma etapa de limpeza fina para remover vestígios de metais residuais.

Perguntas frequentes (FAQ)

Q1: Quais contaminantes o SPC-201A remove?

A1: SPC-201A é formulado especificamente para remover contaminantes pesados ​​de corte, incluindo adesivos de ligação de lingotes, refrigerantes de fio diamantado, óleos de usinagem e partículas de pó de silício a granel.

Q2: O SPC-201A é seguro para wafers fotovoltaicos finos de 182 mm/210 mm e além?

A2: Sim, sua fórmula suave e não corrosiva evita lascas e quebras nas bordas de wafers de silício fotovoltaico monocristalino e policristalino finos de 130-180μm.

Q3: O SPC-201A pode ser usado sozinho?

A3: Sim, o SPC-201A pode ser usado sozinho para limpeza áspera, reciclagem de wafer e pré-limpeza de inspeção. Para obter resultados ideais de texturização, recomendamos seguir com uma etapa de limpeza fina.

Q4: Qual é a taxa de diluição recomendada e a temperatura operacional?

A4: A proporção de diluição recomendada é 1:10–1:15 e a temperatura operacional ideal é 35–55°C (45°C recomendado para melhores resultados).

Q5: O SPC-201A pode ser usado em linhas de produção de alto volume no Sudeste Asiático?

A5: Sim, sua formulação com baixa formação de espuma e longa estabilidade no banho o tornam ideal para linhas de produção automatizadas contínuas de alto volume.

Q6: Quanto tempo dura o banho SPC-201A?

A6: Sob condições de produção contínua, o banho normalmente dura de 15 a 25 dias. A reposição de rotina de solução estoque de 0,5% a 1,0% a cada 8 horas mantém o desempenho ideal.