Pra-Pembersih Beralkali untuk Wafer Suria DWS

Kelebihan Teknikal Teras

1. Pelucutan Bahan Pencemar yang Cepat

Dikuasakan oleh sistem surfaktan termaju, ia cepat melarutkan pelekat ikatan jongkong yang degil dan memecahkan cecair penyejuk kelikatan tinggi yang digunakan dalam pemotongan DWS berkelajuan tinggi, membolehkan daya pengeluaran yang lebih tinggi.

2. Kestabilan Talian Tidak Ditandingi & Perlindungan Muncung

Menggantung serbuk silikon dengan berkesan untuk mengelakkan pemendapan dan pemendapan semula. Ini menghapuskan penyumbatan muncung sepenuhnya, mengurangkan kekerapan penyelenggaraan yang tidak dirancang sehingga 30%.

3. Peralatan Bebas Fluorida & Pematuhan Air Sisa

Formulasi tidak menghakis, bebas fluorida melindungi tangki keluli tahan karat dan paip dalaman, memanjangkan hayat perkhidmatan alat pembersihan automatik sambil memudahkan pra-rawatan air sisa dengan ketara.

4. Mandi yang Cekap Kos Tahan Lama

Mengekalkan prestasi pembersihan yang konsisten untuk jangka hayat mandian selama 15-25 hari. Dengan penambahan semula rutin hanya 0.5%-1.0% larutan stok, ia secara drastik mengurangkan penggunaan bahan kimia dan jumlah kos pemilikan (TCO).

5. Sokongan Ultra-Nipis & Format Besar

Formulasi yang lembut dan terkawal menghalang keretakan mikro dan kerosakan permukaan pada substrat yang rapuh dan ultra nipis (<150μm) semasa pembersihan pemprosesan tinggi wafer solar format besar.

Spesifikasi Teknikal Pra-Pembersih Beralkali SPC-201A

Senario Aplikasi & Integrasi Sistem

1. Permohonan Kendiri

SPC-201A boleh digunakan secara bebas untuk proses yang tidak memerlukan sistem pembersihan dua langkah yang lengkap.

• Pembersihan Kasar Selepas Menghiris Wafer PV: Mengeluarkan bahan cemar organik berat dan serbuk silikon pukal daripada wafer yang dipotong, sesuai untuk pelanggan yang menggunakan bahan kimia pembersih halus pihak ketiga atau mempunyai keperluan kualiti permukaan yang lebih rendah.

• Kitar Semula Wafer PV Terpakai: Menanggalkan salutan dan bahan cemar yang tinggal dengan kos efektif daripada wafer suria akhir hayat, meningkatkan kecekapan kitar semula dan mengurangkan sisa bahan.

• Pra-Pembersihan untuk Pemeriksaan Wafer: Menyediakan permukaan wafer untuk pemeriksaan visual dan elektrik dengan membuang serpihan permukaan, memastikan pengesanan kecacatan yang tepat.

2. Integrasi Sistem Dua Langkah

Disyorkan sebagai langkah pra-pembersihan utama sebelum proses penteksanan.

• Sistem Pembersihan Wafer PV Dua Langkah Standard: Apabila diikuti dengan Pembersih Halus Asid Lemah SPC-201B, memberikan penyingkiran bahan cemar yang lengkap dan penyediaan permukaan yang optimum untuk penteksunan, menghasilkan kecekapan penukaran sel solar 0.3-0.5% lebih tinggi.

Garis Panduan Penggunaan & Soalan Lazim

Panduan Operasi yang Disyorkan

• Nisbah Pencairan: 1:10 – 1:15 (lebih kurang 6% – 10% kepekatan)

• Suhu Operasi: 35 – 55℃ (Disyorkan: 45℃)

• Kaedah Pembersihan: Ultrasonik / Semburan / Rendaman

• Masa Pembersihan: 4 – 8 minit

• Membilas: Membilas limpahan dengan air DI Gred 2 atau lebih tinggi

• Pengeringan: Pengeringan putaran atau pengeringan suhu rendah (< 80 ℃)

Nota untuk kegunaan kendiri: SPC-201A sesuai untuk pembersihan kasar dan pemeriksaan pra-pembersihan. Untuk penyediaan bertekstur, kami mengesyorkan mengikuti langkah pembersihan yang halus untuk mengeluarkan sisa logam surih.

Soalan Lazim (Soalan Lazim)

S1: Apakah bahan cemar yang dikeluarkan oleh SPC-201A?

A1: SPC-201A dirumus khusus untuk membuang bahan cemar penghirisan berat termasuk pelekat ikatan Ingot, penyejuk wayar berlian, minyak pemesinan dan zarah serbuk silikon pukal.

S2: Adakah SPC-201A selamat untuk 182mm/210mm dan seterusnya wafer PV nipis?

J2: Ya, formula lembut tidak menghakis menghalang cipratan tepi dan pecah wafer silikon fotovoltaik monohablur nipis 130-180μm dan polihabluran.

S3: Bolehkah SPC-201A digunakan secara bersendirian?

A3: Ya, SPC-201A boleh digunakan secara bersendirian untuk pembersihan kasar, kitar semula wafer dan pemeriksaan pra-pembersihan. Untuk hasil tekstur yang optimum, kami mengesyorkan untuk mengikuti langkah pembersihan yang halus.

S4: Apakah nisbah pencairan yang disyorkan dan suhu operasi?

A4: Nisbah pencairan yang disyorkan ialah 1:10–1:15, dan suhu operasi optimum ialah 35–55℃ (45℃ disyorkan untuk hasil terbaik).

S5: Bolehkah SPC-201A digunakan dalam barisan pengeluaran volum tinggi di Asia Tenggara?

A5: Ya, formulasi berbuih rendah dan kestabilan mandian lama menjadikannya sesuai untuk barisan pengeluaran automatik volum tinggi berterusan.

S6: Berapa lama tempoh mandian SPC-201A?

A6: Dalam keadaan pengeluaran berterusan, mandian biasanya berlangsung selama 15–25 hari. Penambahan rutin 0.5%–1.0% larutan stok setiap 8 jam mengekalkan prestasi optimum.