Alkaline Pre-Cleaner for DWS Solar Wafers

Kjerne tekniske fordeler

1. Rask fjerning av forurensninger

Drevet av et avansert overflateaktivt system, løser den raskt opp gjenstridige blokkbindende lim og bryter ned kjølevæskene med høy viskositet som brukes i høyhastighets DWS-skjæring, noe som muliggjør høyere produksjonsgjennomstrømning.

2. Uovertruffen linjestabilitet og dysebeskyttelse

Suspenderer effektivt silisiumpulver for å forhindre sedimentering og gjenavsetning. Dette eliminerer fullstendig dyseblokkering, og reduserer ikke-planlagt vedlikeholdsfrekvens med opptil 30 %.

3. Fluorfritt utstyr og avløpsvann

Den ikke-korrosive, fluorfrie formuleringen beskytter rustfrie ståltanker og innvendige rør, og forlenger levetiden til automatiserte rengjøringsverktøy samtidig som det forenkler forbehandlingen av avløpsvann betydelig.

4. Kostnadseffektivt bad med lang levetid

Opprettholder konsistent rengjøringsytelse for en utvidet badlevetid på 15-25 dager. Med rutinemessig påfyll av kun 0,5 %-1,0 % lagerløsning, reduserer det kjemikalieforbruket og de totale eierkostnadene (TCO) drastisk.

5. Ultratynn og storformatstøtte

Den milde, kontrollerte formuleringen forhindrer mikrosprekker og overflateskader på skjøre, ultratynne underlag (<150 μm) under høykapasitetsrengjøring av solcelleskiver i storformat.

Tekniske spesifikasjoner for SPC-201A Alkaline Pre-Cleaner

Applikasjonsscenarier og systemintegrasjon

1. Frittstående applikasjon

SPC-201A kan brukes uavhengig for prosesser som ikke krever et komplett to-trinns rengjøringssystem.

• PV Wafer Post-slicing grovrengjøring: Fjerner tunge organiske forurensninger og bulksilisiumpulver fra as-cut wafers, ideelt for kunder som bruker tredjeparts fine rengjøringskjemikalier eller har lavere krav til overflatekvalitet.

• Resirkulering av brukt PV-wafer: Fjerner på en kostnadseffektiv måte gjenværende belegg og forurensninger fra utgåtte solcelleskiver, forbedrer resirkuleringseffektiviteten og reduserer materialavfall.

• Forrensing for waferinspeksjon: Klargjør waferoverflater for visuell og elektrisk inspeksjon ved å fjerne overflateavfall, og sikre nøyaktig defektdeteksjon.

2. To-trinns systemintegrasjon

Anbefalt som det primære forrengjøringstrinnet før tekstureringsprosessen.

• Standard to-trinns PV Wafer-rengjøringssystem: Når det følges av SPC-201B Weak Acid Fine Cleaner, leverer det fullstendig fjerning av forurensninger og optimal overflateforberedelse for teksturering, noe som resulterer i 0,3-0,5 % høyere solcellekonverteringseffektivitet.

Retningslinjer for bruk og vanlige spørsmål

Anbefalt driftsveiledning

• Fortynningsforhold: 1:10 – 1:15 (ca. 6 % – 10 % konsentrasjon)

• Driftstemperatur: 35 – 55 ℃ (anbefalt: 45 ℃)

• Rengjøringsmetode: Ultralyd / Spray / Nedsenking

• Rengjøringstid: 4 – 8 minutter

• Skylling: Overløpsskylling med grad 2 eller høyere DI-vann

• Tørking: Sentrifugering eller tørking ved lav temperatur (< 80 ℃)

Merknad for frittstående bruk: SPC-201A er egnet for grovrengjøring og inspeksjon før rengjøring. For å forberede teksturering, anbefaler vi å følge et fint rengjøringstrinn for å fjerne rester av spormetaller.

Ofte stilte spørsmål (FAQs)

Spørsmål 1: Hvilke forurensninger fjerner SPC-201A?

A1: SPC-201A er spesifikt formulert for å fjerne tunge skjærende forurensninger, inkludert ingot-bindende lim, diamanttrådkjølevæsker, maskinoljer og bulk silisiumpulverpartikler.

Spørsmål 2: Er SPC-201A trygt for 182 mm/210 mm og mer tynne PV-skiver?

A2: Ja, dens milde, ikke-korrosive formel forhindrer kantavhugging og brudd på 130-180μm tynne monokrystallinske og polykrystallinske fotovoltaiske silisiumskiver.

Q3: Kan SPC-201A brukes alene?

A3: Ja, SPC-201A kan brukes alene til grovrengjøring, gjenvinning av oblater og inspeksjon før rengjøring. For optimale tekstureringsresultater anbefaler vi å følge med et fint rengjøringstrinn.

Q4: Hva er anbefalt fortynningsforhold og driftstemperatur?

A4: Det anbefalte fortynningsforholdet er 1:10–1:15, og den optimale driftstemperaturen er 35–55 ℃ (45 ℃ anbefales for best resultat).

Q5: Kan SPC-201A brukes i høyvolums produksjonslinjer i Sørøst-Asia?

A5: Ja, dens lavtskummende formulering og lange badstabilitet gjør den ideell for kontinuerlige høyvolums automatiserte produksjonslinjer.

Q6: Hvor lenge varer SPC-201A-badet?

A6: Under kontinuerlige produksjonsforhold varer badet vanligvis 15–25 dager. Rutinemessig påfyll av 0,5 %–1,0 % stamløsning hver 8. time opprettholder optimal ytelse.