IntroductionDans le monde en constante évolution de la microélectronique, de la fabrication de semi-conducteurs et de l'optique de précision, l'utilisation de photorésist est cruciale dans les processus de photolithographie. Le retrait de cette résine photosensible après l’étape de modelage est tout aussi critique.
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Elle se concentre sur la fabrication d'agents pour semi-conducteurs et sur la production, la recherche et le développement de produits chimiques électroniques.