2214AC
2214AC 친환경 효율적인 반도체 웨이퍼 왁스 리무버 는 친환경적이고 효율적인 왁스 제거 및 세척 제품으로, 과학적인 방법을 통해 독특하고 고품질의 계면활성제를 함유하고 있습니다. 신속하고 편리하며 빠른 왁스 제거, 오래 지속되는 효과, 우수한 수세 성능, 낮은 휘발성 및 불연성이 특징입니다. 청소 수명이 길어요. 반도체재료, 광학재료 등 자체에 부식효과가 없고, 자체 안정성이 우수하며, 장기간 보관 시에도 변함이 없습니다.
a) 환경 안전
중금속/인 및 기타 유해물질이 없고 완전 생분해되어 환경과 작업자의 건강을 보호합니다.
b) 효율적인 청소
수지나 접착제를 강하게 용해할 수 있어 세정효과가 뛰어납니다.
c) 열적 안정성
끓는점은 200℃로 높으며 사용시 약간의 냄새가 납니다.
d) 경제적인 비 손상
가격이 저렴하고 재료를 부식시키지 않으며 표면광택을 유지합니다.
| 형질 | 단위 | 데이터 |
| 성상(원액) | - | 투명한 액체 |
| 성상(희석액) | - | 투명한 액체 |
| 냄새 | - | 약간 |
| 유동점 | ℃ | 1 |
| 밀도 | kg/m3.15℃ | 0.95 |
| pH 값 | - | 6.5±0.5 |
a) 반도체 산업 및 광전자 산업
웨이퍼 제조용으로 특별히 설계되었으며 금속 접착 공정에서 왁스 잔여물을 효율적으로 제거하여 표면이 오염되지 않도록 보장합니다. 부식성이 낮은 공식은 구리 및 알루미늄과 같은 재료와 호환되어 고급 제조 공정의 순도 요구 사항을 충족합니다.
b) LED 칩 제조
LED 칩의 Back Thinning 후 Polishing Wax 세척을 위해 GaN/SiC 기판을 손상시키지 않고 Wax 층을 빠르게 용해시킬 수 있습니다.
c) 광학 및 전자 재료
사파이어, 실리콘 웨이퍼 등 재료의 정밀한 탈왁스에 적합하며 특히 압전 세라믹의 복잡한 왁스 잔류물을 처리하는 데 적합합니다. 중성 PH 값 공식은 재료의 표면 산화 또는 격자 손상을 방지합니다.
d) 경질 재료 가공(광결정/SIC 연마/세라믹 등)
SiC 웨이퍼 연마 후처리 과정에서 왁스와 콜로이드 잔여물을 동시에 제거할 수 있습니다. 낮은 휘발성 특성은 광학 결정 생산을 위한 클린룸 표준을 준수합니다.
a) 깨끗한 용기에 왁스제거 세척액을 붓고, 필요한 세척온도까지 가열한 후 초음파/침지 세척을 실시합니다.
b) 직접 원액 세정을 실시합니다. 청소 장비는 50~75°C까지 가열할 수 있으며, 청소제는 재활용할 수 있습니다.
왁스 제거 세척액의 유효성분 함량은 사용 중에 점차 감소하여 왁스 제거 효과가 둔화됩니다. 본 제품은 정기적으로 교체하거나 추가해야 하며 구체적인 복용량은 실제 상황에 따라 결정되어야 합니다.
세척효과와 생산량에 따라 소량씩 여러 번 첨가하세요. 농도를 균일하게 유지하고 세척 효과에 따라 원액을 혼합합니다.
표면에 기름, 먼지, 불순물이 과도하게 쌓여 청소효과가 현저히 떨어집니다. 작동 유체가 노화되면 홈을 다시 열어야 합니다.
다) 본 제품이 눈에 들어가지 않도록 하십시오. 실수로 눈에 들어간 경우에는 눈꺼풀을 들어올리고 흐르는 물이나 생리식염수로 깨끗이 씻어내십시오. 이 제품을 삼키지 마십시오. 실수로 삼켰을 경우 구토를 유도하고 안정을 취한 후 즉시 의사의 진료를 받으십시오.
d) 피부의 과도한 탈지를 방지하기 위해 작업 중에는 내화학성 장갑을 착용하십시오.
마) 보관기간은 2년입니다. 옥외에 보관할 수 없으며 직사광선과 비로부터 보호됩니다.
f) 사용하지 않은 왁스 리무버의 통 뚜껑은 물과 불순물이 섞이는 것을 방지하기 위해 꽉 조여져야 합니다.
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