Eco-Friendly Mahusay na Semiconductor Wafer Wax Remover

a) Ligtas sa kapaligiran

• Walang mabibigat na metal/phosphorus at iba pang nakakapinsalang sangkap, ganap na nabubulok, na nagpoprotekta sa kapaligiran at kalusugan ng mga manggagawa.

b) Mahusay na paglilinis

• Malakas nitong matunaw ang mga resin at adhesive, at may kahanga-hangang epekto sa paglilinis.

c) Thermal Stability

• Ang kumukulo ay kasing taas ng 200 ℃, at may kaunting amoy habang ginagamit.

d) Matipid na hindi nakakapinsala

• Mababang gastos, hindi nakakasira ng mga materyales at nagpapanatili ng kinang sa ibabaw.

a) Industriya ng semiconductor at industriya ng optoelectronic

• Espesyal na idinisenyo para sa pagmamanupaktura ng wafer at mahusay na makapag-alis ng mga latak ng waks mula sa mga proseso ng pagbubuklod ng metal, na tinitiyak na ang ibabaw ay walang kontaminasyon. Ang low-corrosiveness formula nito ay katugma sa mga materyales tulad ng tanso at aluminyo, na nakakatugon sa mga kinakailangan sa kadalisayan ng mga advanced na proseso ng pagmamanupaktura.

b) paggawa ng LED chip

• Para sa paglilinis ng polishing wax pagkatapos ng pagnipis ng likod ng LED chips, maaari nitong mabilis na matunaw ang wax layer nang hindi nasisira ang GaN/SiC substrate.

c) Optical at elektronikong materyales

• Ito ay angkop para sa tumpak na dewaxing ng mga materyales tulad ng sapphire at silicon na mga wafer, at partikular na mahusay sa pagharap sa mga kumplikadong nalalabi ng wax sa piezoelectric ceramics. Ang formula ng neutral na halaga ng PH ay iniiwasan ang oksihenasyon sa ibabaw o pagkasira ng lattice ng materyal.

d) Pagproseso ng matitigas na materyales (Optical crystals /SIC polishing/ceramics, atbp.)

• Sa post-processing ng SiC wafer polishing, ang wax at colloid residues ay maaaring tanggalin nang sabay-sabay. Ang mababang pagkasumpungin na katangian nito ay sumusunod sa mga pamantayan ng cleanroom para sa paggawa ng optical crystal.

a) Ibuhos ang panlinis na solusyon sa pag-alis ng waks sa isang malinis na lalagyan, init ito sa kinakailangang temperatura ng paglilinis, at pagkatapos ay magsagawa ng ultrasonic/immersion na paglilinis.

b) Ang direktang orihinal na paglilinis ng likido ay isinasagawa. Ang kagamitan sa paglilinis ay maaaring painitin sa 50-75°C, at ang ahente ng paglilinis ay maaaring i-recycle.

• Ang nilalaman ng mga aktibong sangkap sa solusyon sa paglilinis ng pagtanggal ng waks ay unti-unting bababa habang ginagamit, at ang epekto ng pagtanggal ng waks ay bumagal. Ang produktong ito ay dapat palitan o idagdag nang regular, at ang tiyak na dosis ay dapat matukoy ng aktwal na sitwasyon.

• Magdagdag ng maliliit na halaga nang maraming beses ayon sa epekto ng paglilinis at dami ng produksyon. Panatilihing pare-pareho ang konsentrasyon at ihalo ang orihinal na solusyon ayon sa epekto ng paglilinis.

• Ang epekto ng paglilinis ay makabuluhang nabawasan, na may labis na akumulasyon ng langis, dumi at mga dumi sa ibabaw. Kapag tumatanda ang working fluid, kinakailangan na muling buksan ang mga grooves.

c) Huwag hayaang madikit ang produktong ito sa iyong mga mata. Kung ito ay hindi sinasadyang tumalsik sa iyong mga mata, itaas ang iyong mga talukap at banlawan nang maigi gamit ang umaagos na tubig o normal na asin. Huwag lunukin ang produktong ito. Kung hindi sinasadyang napalunok, humimok ng pagsusuka, manatili sa pahinga at agad na humingi ng medikal na atensyon.

d) Upang maiwasan ang labis na degreasing ng balat, magsuot ng guwantes na lumalaban sa kemikal sa panahon ng operasyon.

e) Ang panahon ng pag-iimbak ay dalawang taon. Hindi ito maaaring itago sa labas at protektado mula sa direktang sikat ng araw at ulan.

f) Ang takip ng balde ng hindi nagamit na wax remover ay dapat higpitan upang maiwasan ang paghalo ng tubig at mga dumi.