| Доступност: | |
|---|---|
| Количина: | |
2214АЦ
2214АЦ Ецо-Фриендли Еффициент Семицондуцтор Вафер Вак Ремовер је еколошки прихватљив и високо ефикасан производ за уклањање и чишћење воска, формулисан са јединственим и висококвалитетним сурфактантима кроз научне методе. Одликује га брзо, практично и брзо уклањање воска, дуготрајан ефекат, добре перформансе прања водом, ниска испарљивост и незапаљивост. Има дуг животни век чишћења. Нема корозивно дејство на полупроводничке материјале, оптичке материјале итд., има добру самостабилност и остаје непромењен током дуготрајног складиштења.
а) Безбедно по животну средину
Без тешких метала/фосфора и других штетних материја, потпуно биоразградив, штити животну средину и здравље радника.
б) Ефикасно чишћење
Може снажно да раствори смоле и лепкове и има изузетан ефекат чишћења.
ц) Термичка стабилност
Тачка кључања је чак 200 ℃, а током употребе постоји благи мирис.
д) Економичан без оштећења
Ниска цена, не кородира материјале и одржава сјај површине.
| Карактеристике | Јединица | Подаци |
| Изглед (Оригинална течност) | - | Провидна течност |
| Изглед (разређени раствор) | - | Провидна течност |
| Мирис | - | Помало |
| Поур Поинт | ℃ | 1 |
| Густина | кг/м³.15℃ | 0.95 |
| пХ вредност | - | 6,5±0,5 |
а) Индустрија полупроводника и оптоелектронска индустрија
Специјално дизајниран за производњу плочица и може ефикасно уклонити остатке воска из процеса везивања метала, осигуравајући да површина није контаминирана. Његова формула ниске корозивности је компатибилна са материјалима као што су бакар и алуминијум, испуњавајући захтеве за чистоћом напредних производних процеса.
б) Производња ЛЕД чипова
За чишћење воска за полирање након задњег стањивања ЛЕД чипова, може брзо да раствори слој воска без оштећења ГаН/СиЦ подлоге.
ц) Оптички и електронски материјали
Погодан је за прецизну депаратизацију материјала као што су сафирне и силицијумске плочице, а посебно је добар у раду са сложеним остацима воска у пиезоелектричној керамици. Формула неутралне ПХ вредности избегава површинску оксидацију или оштећење решетке материјала.
д) Обрада тврдих материјала (оптички кристали /СИЦ полирање/керамика, итд.)
У накнадној обради полирања СиЦ плочица, остаци воска и колоида могу се истовремено уклонити. Његова карактеристика ниске испарљивости је у складу са стандардима чистих просторија за производњу оптичких кристала.
а) Сипајте раствор за чишћење који уклања восак у чисту посуду, загрејте га на потребну температуру чишћења, а затим извршите ултразвучно/потапањем чишћење.
б) Изводи се директно оригинално течно чишћење. Опрема за чишћење се може загрејати на 50-75°Ц, а средство за чишћење се може рециклирати.
Садржај активних састојака у раствору за чишћење за уклањање воска ће се постепено смањивати током употребе, а ефекат уклањања воска ће се успорити. Овај производ треба редовно заменити или додавати, а специфичну дозу треба одредити према стварном стању.
Додајте у малим количинама више пута у складу са ефектом чишћења и запремином производње. Одржавајте концентрацију уједначену и мешајте оригинални раствор према ефекту чишћења.
Ефекат чишћења је значајно опао, уз прекомерно накупљање уља, прљавштине и нечистоћа на површини. Када радна течност стари, потребно је поново отворити жлебове.
ц) Не дозволите да овај производ дође у контакт са вашим очима. Ако вам случајно прсне у очи, подигните капке и темељно исперите текућом водом или нормалним физиолошким раствором. Немојте гутати овај производ. Ако се случајно прогута, изазовите повраћање, оставите да мирује и одмах потражите медицинску помоћ.
д) Да бисте спречили прекомерно одмашћивање коже, током рада носите рукавице отпорне на хемикалије.
е) Период складиштења је две године. Не може се чувати на отвореном и заштићен од директне сунчеве светлости и кише.
ф) Поклопац посуде неискоришћеног средства за уклањање воска мора бити затегнут како би се спречило мешање воде и нечистоћа.
садржај је празан!