| Disponueshmëria: | |
|---|---|
| Sasia: | |
8299
8299 Stripper i lehtë i ngurtësuar me fotorezist me acid është një zgjidhje e lehtë për heqjen e fotorezistit me acid dhe miqësore me mjedisin, dhe është projektuar posaçërisht për të trajtuar çështjet e mbetjeve të fotorezistit negativ pas tharjes së , hirit , apo edhe karbonizimit . Formulimi i tij unik, duke kombinuar acide organike, frenues korrozioni me efikasitet të lartë dhe tretës me paqëndrueshmëri të ulët, siguron heqjen efikase të fotorezistit në kushte të buta, ndërsa mbron në mënyrë të sigurtë lloje të ndryshme materialesh dhe nënshtresash.
a) Aftësia e heqjes së fotorezistit me spektër të gjerë
E zbatueshme si për fotorezistet pozitive ashtu edhe për ato negative: Demonstron ekspertizë të veçantë në trajtimin e mbetjeve kokëfortë pas hirit, tharjes dhe karbonizimit.
b) Formula e butë e acidit
Vlera e pH-së: varion midis 3-5, duke shmangur korrozionin në shtresat metalike si Al, Cu, Ti dhe gjysmëpërçuesit e përbërë si GaAs.
c) Miqësore dhe e sigurtë për mjedisin
Pa halogjen dhe pa fluor: Përputhet me rregulloret mjedisore si RoHS dhe REACH.
Paqëndrueshmëri e ulët dhe VOC i ulët: Jo toksike dhe jo e ndezshme, duke reduktuar rreziqet në vendin e punës dhe duke mbrojtur shëndetin e operatorit.
d) Efikasiteti i procesit
Zbatueshmëria në temperaturë të gjerë (25°C–90°C): E qëndrueshme në temperaturë të ulët për paketim MEMS/të avancuar, rezistente ndaj temperaturave të larta për EUV.
Penetrimi efikas: Shfaq tretshmëri të shkëlqyeshme për fotorezistë të ndërlidhur (p.sh. SU-8) dhe fotorezistë negativë të karbonizuar.
Procesi i thjeshtuar: Një produkt i vetëm i aftë për pajtueshmëri me fotorezistencë të dyfishtë, duke reduktuar kohën e ndërrimit të linjës së prodhimit, duke shmangur ndotjen e kryqëzuar dhe duke zgjatur jetëgjatësinë e pajisjeve.
| Veçori |
striptiste tradicionale |
8299 |
| Siguria materiale |
Mund të gërryejë metalet (Cu/Al) | I sigurt për të gjitha materialet kryesore |
| Photoresist Rang | I kufizuar në 1 lloj (+/–) | Trajton të gjitha llojet + të karbonizuar |
| Eko-miqësore | Shpesh VOC/halogjen i lartë | VOC pa halogjene |
| Kostoja e procesit | Kërkohen produkte të shumta | Një zgjidhje për të gjithë |
| Pajtueshmëria e pajisjeve | Mund të degradojë tanket | Jo korrozive |
| Temperatura e funksionimit | 40–80°C | 25–90°C |
| Karakteristikat | Njësia | Të dhënat |
| Vlera e pH |
- | 3-5 |
| Graviteti specifik | - | 0,95-1 |
| Pika e vlimit | °C | 190 |
a) Patate të skuqura me bazë silikoni
E përputhshme me Si/SiO2/SiN, duke mbrojtur shtresat e ndërlidhjes Cu/Al.
b) Pajisjet GaAs/GaN
Formula e butë e acidit parandalon korrozionin e elektrodave Au/Ti.
c) Gjysmëpërçuesit e fuqisë
Heq në mënyrë efikase fotorezistin e karbonizuar me temperaturë të lartë SiC, duke mbrojtur shtresat Al.
d) Paketim i avancuar
Njëkohësisht pastron mbetjet TSV dhe shtresat e pasivimit PI.
e) Sensorët MEMS
Heq mbetjet e thella të gdhendjes së silikonit pa gërryer jastëkët Au.
f) Elektronikë fleksibël
E përputhshme me nënshtresat PI/PET pa dëmtuar telat nano-argjendi.
a) Metodat e aplikueshme të pastrimit
Rekomandohet: Njomje e nxehtë
Metoda të tjera përfshijnë tejzanor, spërkatje dhe furçë.
b) Temperatura dhe koha
Gama e temperaturës: 25°C – 90°C (ngrohja përshpejton pastrimin).
Pastrim standard: 3 – 15 minuta për rezervuar (duke përdorur zgjidhje të pastër).
Mbetje kokëfortë: Mund të zgjatet deri në 30 minuta.
c) Udhëzimet kryesore të funksionimit
Përdorni Solucionin e rregullt: Nuk kërkohet hollim.
Ruajtja e temperaturës së caktuar: Pasi të keni zhytur vaferat në tretësirën e zhveshjes.
Rregulloni kohën bazuar në trashësinë e fotorezistit/shkallën e karbonizimit.
përmbajtja është bosh!