Ju jeni këtu: Shtëpi / Produktet / Kimikatet për gjysmëpërçuesit / Pastrues për pjesë precize dhe gjysmëpërçues / Nxjerrja e lehtë fotorezistuese e ngurtësuar me acide

ngarkim

Nxitëse fotorezistente e lehtë e ngurtësuar me acid

Është një zhveshës acid i butë miqësor ndaj mjedisit, i formuluar posaçërisht për të hequr mbetjet e fotorezistëve të ngurtësuar/karbonizuar duke mbrojtur nënshtresat e ndjeshme si Si, GaAs dhe ndërlidhjet metalike.
 
Përparësitë:
  • Heqja me spektër të gjerë
  • Acid i butë i sigurt për metal
  • Pa halogjen/VOC
  • Stabiliteti 25-90°C
  • Heqja e rezistencës së karbonizuar me 1 hap
  • Përdorimi me shumë substrate (SiC/MEMS/fleksibël)
 
Njësitë e paketimit: 25L/fuçi, 200L/fuçi
Disponueshmëria:
Sasia:
butoni i ndarjes së Facebook
butoni i ndarjes në Twitter
butoni i ndarjes së linjës
butoni i ndarjes së wechat
butoni i ndarjes së linkedin
butoni i ndarjes pinterest
butoni i ndarjes së whatsapp
butoni i ndarjes kakao
butoni i ndarjes së snapchat
butoni i ndarjes së telegramit
Ndani këtë buton të ndarjes
  • 8299

8299 Stripper i lehtë i ngurtësuar me fotorezist me acid është një zgjidhje e lehtë për heqjen e fotorezistit me acid dhe miqësore me mjedisin, dhe është projektuar posaçërisht për të trajtuar çështjet e mbetjeve të fotorezistit negativ pas tharjes së , hirit , apo edhe karbonizimit . Formulimi i tij unik, duke kombinuar acide organike, frenues korrozioni me efikasitet të lartë dhe tretës me paqëndrueshmëri të ulët, siguron heqjen efikase të fotorezistit në kushte të buta, ndërsa mbron në mënyrë të sigurtë lloje të ndryshme materialesh dhe nënshtresash.

a) Aftësia e heqjes së fotorezistit me spektër të gjerë

  • E zbatueshme si për fotorezistet pozitive ashtu edhe për ato negative‌: Demonstron ekspertizë të veçantë në trajtimin e mbetjeve kokëfortë pas hirit, tharjes dhe karbonizimit.

b) Formula e butë e acidit

  • Vlera e pH-së: varion midis 3-5, duke shmangur korrozionin në shtresat metalike si Al, Cu, Ti dhe gjysmëpërçuesit e përbërë si GaAs.

c) Miqësore dhe e sigurtë për mjedisin

  • Pa halogjen dhe pa fluor‌: Përputhet me rregulloret mjedisore si RoHS dhe REACH.

  • Paqëndrueshmëri e ulët dhe VOC i ulët: Jo toksike dhe jo e ndezshme, duke reduktuar rreziqet në vendin e punës dhe duke mbrojtur shëndetin e operatorit.

d) Efikasiteti i procesit

  • Zbatueshmëria në temperaturë të gjerë (25°C–90°C): E qëndrueshme në temperaturë të ulët për paketim MEMS/të avancuar, rezistente ndaj temperaturave të larta për EUV.

  • Penetrimi efikas‌: Shfaq tretshmëri të shkëlqyeshme për fotorezistë të ndërlidhur (p.sh. SU-8) dhe fotorezistë negativë të karbonizuar.

  • Procesi i thjeshtuar‌: Një produkt i vetëm i aftë për pajtueshmëri me fotorezistencë të dyfishtë, duke reduktuar kohën e ndërrimit të linjës së prodhimit, duke shmangur ndotjen e kryqëzuar dhe duke zgjatur jetëgjatësinë e pajisjeve.


Veçori
striptiste tradicionale  
8299
Siguria materiale
Mund të gërryejë metalet (Cu/Al) I sigurt për të gjitha materialet kryesore
Photoresist Rang I kufizuar në 1 lloj (+/–) Trajton të gjitha llojet + të karbonizuar
Eko-miqësore Shpesh VOC/halogjen i lartë VOC pa halogjene
Kostoja e procesit Kërkohen produkte të shumta Një zgjidhje për të gjithë
Pajtueshmëria e pajisjeve Mund të degradojë tanket Jo korrozive
Temperatura e funksionimit 40–80°C 25–90°C


Karakteristikat Njësia Të dhënat
Vlera e pH
- 3-5
Graviteti specifik -

0,95-1

Pika e vlimit °C 190

a) Patate të skuqura me bazë silikoni

E përputhshme me Si/SiO2/SiN, duke mbrojtur shtresat e ndërlidhjes Cu/Al.

b) Pajisjet GaAs/GaN

Formula e butë e acidit parandalon korrozionin e elektrodave Au/Ti.

c) Gjysmëpërçuesit e fuqisë

Heq në mënyrë efikase fotorezistin e karbonizuar me temperaturë të lartë SiC, duke mbrojtur shtresat Al.

d) Paketim i avancuar

Njëkohësisht pastron mbetjet TSV dhe shtresat e pasivimit PI.

e) Sensorët MEMS

Heq mbetjet e thella të gdhendjes së silikonit pa gërryer jastëkët Au.

f) Elektronikë fleksibël

E përputhshme me nënshtresat PI/PET pa dëmtuar telat nano-argjendi.

a) Metodat e aplikueshme të pastrimit

  • Rekomandohet: Njomje e nxehtë

  • Metoda të tjera përfshijnë tejzanor, spërkatje dhe furçë.

b) Temperatura dhe koha

  • Gama e temperaturës‌: 25°C – 90°C (ngrohja përshpejton pastrimin).

  • Pastrim standard‌: 3 – 15 minuta për rezervuar (duke përdorur zgjidhje të pastër).

  • Mbetje kokëfortë: Mund të zgjatet deri në 30 minuta.

c) Udhëzimet kryesore të funksionimit

  • Përdorni Solucionin e rregullt: Nuk kërkohet hollim.

  • Ruajtja e temperaturës së caktuar: Pasi të keni zhytur vaferat në tretësirën e zhveshjes.

  • Rregulloni kohën bazuar në trashësinë e fotorezistit/shkallën e karbonizimit.

E mëparshme: 
Tjetër: 

Lajme të ngjashme

përmbajtja është bosh!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
Email:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Orari i hapjes:
e hënë. - E premte. 9:00 - 18:00
Rreth Nesh
Ajo ka qenë e fokusuar në prodhimin e agjentëve për gjysmëpërçuesit dhe prodhimin dhe kërkimin dhe zhvillimin e kimikateve elektronike.
Abonohu
Regjistrohu për buletinin tonë për të marrë lajmet më të fundit.
E drejta e autorit © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Të gjitha të drejtat e rezervuara. Harta e faqes Politika e Privatësisë