| Dobavljivost: | |
|---|---|
| Količina: | |
2214AC
2214AC Eco-Friendly Efficient Semiconductor Wafer Wax Remover je okolju prijazen in zelo učinkovit izdelek za odstranjevanje in čiščenje voska, oblikovan z edinstvenimi in visokokakovostnimi površinsko aktivnimi snovmi z znanstvenimi metodami. Odlikuje ga hitro, priročno in hitro odstranjevanje voska, dolgotrajen učinek, dobra učinkovitost pranja z vodo, nizka hlapnost in negorljivost. Ima dolgo življenjsko dobo čiščenja. Nima korozivnega učinka na same polprevodniške materiale, optične materiale itd., ima dobro lastno stabilnost in ostane nespremenjen med dolgotrajnim skladiščenjem.
a) Varen za okolje
Brez težkih kovin/fosforja in drugih škodljivih snovi, popolnoma biološko razgradljiv, varuje okolje in zdravje delavcev.
b) Učinkovito čiščenje
Lahko močno raztopi smole in lepila ter ima izjemen čistilni učinek.
c) Toplotna stabilnost
Vrelišče je kar 200 ℃, med uporabo pa je rahel vonj.
d) Ekonomsko neškodljivo
Nizka cena, ne razjeda materialov in ohranja sijaj površine.
| Značilnosti | Enota | podatki |
| Videz (Originalna tekočina) | - | Prozorna tekočina |
| Videz (razredčena raztopina) | - | Prozorna tekočina |
| Vonj | - | Rahlo |
| Točka tečenja | ℃ | 1 |
| Gostota | kg/m³.15 ℃ | 0.95 |
| pH vrednost | - | 6,5±0,5 |
a) Industrija polprevodnikov in optoelektronska industrija
Posebej zasnovan za proizvodnjo rezin in lahko učinkovito odstrani ostanke voska iz postopkov lepljenja kovin, kar zagotavlja, da je površina brez kontaminacije. Njegova nizko korozivna formula je združljiva z materiali, kot sta baker in aluminij, ter izpolnjuje zahteve glede čistosti naprednih proizvodnih procesov.
b) Proizvodnja LED čipov
Za čiščenje polirnega voska po zadnjem redčenju čipov LED lahko hitro raztopi plast voska, ne da bi poškodoval substrat GaN/SiC.
c) Optični in elektronski materiali
Primeren je za natančno razvoskanje materialov, kot so safirne in silicijeve rezine, in je še posebej dober pri ravnanju s kompleksnimi ostanki voska v piezoelektrični keramiki. Formula nevtralne PH vrednosti preprečuje površinsko oksidacijo ali poškodbe rešetke materiala.
d) Obdelava trdih materialov (optični kristali/SIC poliranje/keramika itd.)
Pri naknadni obdelavi poliranja rezin SiC je mogoče istočasno odstraniti ostanke voska in koloida. Njegova nizka volatilnost je v skladu s standardi čistih prostorov za proizvodnjo optičnih kristalov.
a) Čistilno raztopino za odstranjevanje voska nalijte v čisto posodo, jo segrejte na želeno temperaturo čiščenja in nato izvedite ultrazvočno/potopno čiščenje.
b) Izvede se neposredno originalno tekoče čiščenje. Čistilno opremo lahko segrejete na 50-75°C, čistilno sredstvo pa lahko reciklirate.
Vsebnost aktivnih sestavin v čistilni raztopini za odstranjevanje voska se bo med uporabo postopoma zmanjševala, učinek odstranjevanja voska pa se bo upočasnil. Ta izdelek je treba redno zamenjati ali dodajati, specifično odmerjanje pa je treba določiti glede na dejansko stanje.
Večkrat dodajte v majhnih količinah glede na učinek čiščenja in obseg proizvodnje. Ohranite enakomerno koncentracijo in mešajte prvotno raztopino glede na učinek čiščenja.
Učinek čiščenja se je znatno zmanjšal, na površini se je prekomerno nabralo olje, umazanija in nečistoče. Ko se delovna tekočina postara, je potrebno utore ponovno odpreti.
c) Izdelek ne sme priti v stik z očmi. Če vam pomotoma brizga v oči, dvignite veke in jih temeljito sperite s tekočo vodo ali navadno fiziološko raztopino. Tega izdelka ne pogoltnite. Če pride do nenamernega zaužitja, izzvati bruhanje, pustiti počivati in nemudoma poiskati zdravniško pomoč.
d) Da preprečite prekomerno razmaščevanje kože, med delovanjem nosite rokavice, odporne na kemikalije.
e) Rok skladiščenja je dve leti. Ni ga mogoče skladiščiti na prostem in zaščiteno pred neposredno sončno svetlobo in dežjem.
f) Pokrov vedra neuporabljenega odstranjevalca voska je treba zategniti, da preprečite mešanje vode in nečistoč.
vsebina je prazna!