Mieto happokovettuva fotoresist-kuoritusaine

a) Laajaspektrin fotoresistin poistoominaisuus

• Soveltuu sekä positiivisille että negatiivisille fotoresisteille‌: Osoittaa erityistä asiantuntemusta pinttyneiden jäämien käsittelyssä tuhkauksen, kovetuksen ja hiiltymisen jälkeen.

b) Mieto happokaava

• pH-arvo‌: Vaihtelee välillä 3-5, välttäen korroosiota metallikerroksiin, kuten Al, Cu, Ti ja yhdistepuolijohteisiin, kuten GaAs.

c) Ympäristöystävällinen ja turvallinen

• Halogeeniton ja fluoriton‌: Täyttää ympäristömääräyksiä, kuten RoHS ja REACH.

• Alhainen haihtuvuus ja alhainen VOC‌: Myrkytön ja syttymätön, vähentää työpaikan vaaroja ja turvaa käyttäjän terveyden.

d) Prosessin tehokkuus

• Soveltuvuus laajaan lämpötilaan (25°C–90°C): Matalissa lämpötiloissa vakaa MEMS/edistyneelle pakkaukselle, korkean lämpötilan kestävä EUV:lle.

• Tehokas tunkeutuminen‌: Sillä on erinomainen liukoisuus erittäin silloitettuihin fotoresisteihin (esim. SU-8) ja karbonoituihin negatiivisiin fotoresisteihin.

• Yksinkertaistettu prosessi‌: Yksittäinen tuote, joka pystyy yhteensopimaan kahden fotoresistin kanssa, lyhentää tuotantolinjan vaihtoaikaa, välttää ristikontaminaation ja pidentää laitteiden käyttöikää.

a) Piipohjaiset sirut‌

Yhteensopiva Si/SiO₂/SiN:n kanssa, suojaavat Cu/Al-liitäntäkerroksia.

b) GaAs/GaN-laitteet‌

Mieto happokoostumus estää Au/Ti-elektrodien korroosiota.

c) Tehopuolijohteet‌

Poistaa tehokkaasti piikarbidin korkean lämpötilan hiiltyneen fotoresistin ja suojaa Al-kerroksia.

d) Advanced Packaging‌

Puhdistaa samanaikaisesti TSV-jäämät ja PI-passivointikerrokset.

e) MEMS-anturit

Poistaa syvät piietsausjäämät syövyttämättä Au-tyynyjä.

f) Joustava elektroniikka‌

Yhteensopiva PI/PET-substraattien kanssa vahingoittamatta nano-hopealankoja.

a) Sovellettavat puhdistusmenetelmät

• Suositus: Kuumaliotus

• Muita menetelmiä ovat ultraääni, ruiskutus ja harjaus.

b) Lämpötila ja aika

• Lämpötila-alue‌: 25°C – 90°C (kuumennus nopeuttaa puhdistusta).

• Vakiopuhdistus‌: 3–15 minuuttia säiliötä kohti (puhdas liuos).

• Itsepäinen jäännös‌: Voidaan pidentää jopa 30 minuuttiin.

c) Tärkeimmät käyttöohjeet

• Käytä puhdasta liuosta‌: Laimentamista ei tarvita.

• Säilytä asetettu lämpötila‌: Kun kiekot on upotettu strippausliuokseen.

• Säädä aikaa fotoresistin paksuuden/hiiltymisasteen perusteella.