φόρτωση

Απογυμνωτικό φωτοανθεκτικό ελαφρύ σκληρό οξύ

Είναι ένα φιλικό προς το περιβάλλον απογυμνωτικό ήπιου οξέος ειδικά σχεδιασμένο για να αφαιρεί υπολείμματα σκληρυμένων/ανθρακοποιημένων φωτοανθεκτικών ενώ προστατεύει ευαίσθητα υποστρώματα όπως Si, GaAs και μεταλλικές διασυνδέσεις.
 
Φόντα:
  • Αφαίρεση ευρέος φάσματος
  • ‌Μεταλλικά ασφαλές ήπιο οξύ
  • Χωρίς αλογόνο/VOC
  • Σταθερότητα 25-90°C
  • Αφαίρεση ανθρακούχου αντίστασης σε 1 βήμα
  • ‌Χρήση πολλαπλών υποστρωμάτων (SiC/MEMS/ευέλικτο)
 
Μονάδες συσκευασίας: 25L/βαρέλι, 200L/βαρέλι
Διαθεσιμότητα:
Ποσότητα:
κουμπί κοινής χρήσης facebook
κουμπί κοινής χρήσης twitter
κουμπί κοινής χρήσης γραμμής
κουμπί κοινής χρήσης wechat
κουμπί κοινής χρήσης linkedin
κουμπί κοινής χρήσης pinterest
κουμπί κοινής χρήσης whatsapp
κουμπί κοινής χρήσης kakao
Κουμπί κοινής χρήσης snapchat
κουμπί κοινής χρήσης τηλεγραφήματος
κοινοποιήστε αυτό το κουμπί κοινής χρήσης
  • 8299

Το 8299 Mild Acid Hardened Photoresist Stripper είναι μια ήπια λύση απογύμνωσης φωτοανθεκτικού φωτοανθεκτικού οξέος και φιλική προς το περιβάλλον και είναι ειδικά σχεδιασμένη για να αντιμετωπίζει τα προβλήματα υπολειμμάτων αρνητικού φωτοανθεκτικού υλικού μετά τη με τέφρα , σκλήρυνση ή ακόμα και την ενανθράκωση . Η μοναδική του σύνθεση, που συνδυάζει οργανικά οξέα, υψηλής απόδοσης αναστολείς διάβρωσης και διαλύτες χαμηλής πτητικότητας, εξασφαλίζει αποτελεσματική αφαίρεση φωτοανθεκτικού υπό ήπιες συνθήκες ενώ προστατεύει με ασφάλεια διάφορους τύπους υλικών και υποστρωμάτων.

α) Δυνατότητα αφαίρεσης φωτοανθεκτικού ευρέος φάσματος

  • Ισχύει τόσο για θετικά όσο και για αρνητικά φωτοανθεκτικά: Επιδεικνύει ιδιαίτερη τεχνογνωσία στον χειρισμό επίμονων υπολειμμάτων μετά την τέφρα, τη σκλήρυνση και την ενανθράκωση.

β) Ήπια όξινη φόρμουλα

  • Τιμή pH‌: Κυμαίνεται μεταξύ 3-5, αποφεύγοντας τη διάβρωση σε μεταλλικά στρώματα όπως Al, Cu, Ti και σύνθετους ημιαγωγούς όπως GaAs.

γ) Φιλικό προς το περιβάλλον και ασφαλές

  • Χωρίς αλογόνο και χωρίς φθόριο‌: Συμμορφώνεται με περιβαλλοντικούς κανονισμούς όπως RoHS και REACH.

  • Χαμηλή πτητικότητα και χαμηλή πτητικότητα: Μη τοξικό και μη εύφλεκτο, μειώνοντας τους κινδύνους στο χώρο εργασίας και προστατεύοντας την υγεία του χειριστή.

δ) Αποδοτικότητα Διαδικασιών

  • Δυνατότητα εφαρμογής σε ευρεία θερμοκρασία (25°C–90°C): Σταθερό σε χαμηλές θερμοκρασίες για MEMS/προηγμένες συσκευασίες, ανθεκτικό στις υψηλές θερμοκρασίες για EUV.

  • Αποδοτική διείσδυση‌: Επιδεικνύει εξαιρετική διαλυτότητα για φωτοανθεκτικά υψηλής διασταύρωσης (π.χ. SU-8) και ανθρακούχα αρνητικά φωτοανθεκτικά.

  • Απλοποιημένη διαδικασία‌: Ένα μεμονωμένο προϊόν ικανό για συμβατότητα διπλής φωτοαντίστασης, μειώνοντας τον χρόνο αλλαγής γραμμής παραγωγής, αποφεύγοντας τη διασταυρούμενη μόλυνση και παρατείνοντας τη διάρκεια ζωής του εξοπλισμού.


Χαρακτηριστικό
Παραδοσιακό Στρίπερ  
8299
Ασφάλεια υλικού
Μπορεί να διαβρώσει μέταλλα (Cu/Al) Ασφαλές για όλα τα βασικά υλικά
Photoresist Rang Περιορίζεται σε 1 τύπο (+/–) Χειρίζεται όλους τους τύπους + ανθρακούχο
Οικολογικό Συχνά υψηλά VOC/αλογόνο Χωρίς αλογόνο, χαμηλές πτητικές οργανικές ενώσεις
Κόστος διαδικασίας Απαιτούνται πολλά προϊόντα Μία λύση για όλους
Συμβατότητα εξοπλισμού Μπορεί να υποβαθμίσει τις δεξαμενές Μη διαβρωτικό
Θερμοκρασία λειτουργίας 40–80°C 25–90°C


Χαρακτηριστικά Μονάδα Δεδομένα
Τιμή pH
- 3-5
Ειδικό Βάρος -

0,95-1

Σημείο βρασμού °C 190

α) Τσιπ με βάση το πυρίτιο

Συμβατό με Si/SiO2/SiN, προστατεύοντας τα στρώματα διασύνδεσης Cu/Al.

β) Συσκευές GaAs/GaN‌

Η ήπια όξινη φόρμουλα αποτρέπει τη διάβρωση των ηλεκτροδίων Au/Ti.

γ) Ημιαγωγοί ισχύος

Αφαιρεί αποτελεσματικά το ανθρακούχο φωτοανθρακικό SiC υψηλής θερμοκρασίας, προστατεύοντας τα στρώματα Al.

δ) Προηγμένη συσκευασία

Καθαρίζει ταυτόχρονα τα υπολείμματα TSV και τα στρώματα παθητικοποίησης PI.

ε) Αισθητήρες MEMS

Αφαιρεί βαθιά υπολείμματα χάραξης πυριτίου χωρίς να διαβρώνει τα μαξιλαράκια Au.

στ) Ευέλικτα Ηλεκτρονικά‌

Συμβατό με υποστρώματα PI/PET χωρίς να καταστρέφει τα νανοασημένια σύρματα.

α) Εφαρμοστέες Μέθοδοι Καθαρισμού

  • Συνιστάται: Ζεστό μούλιασμα

  • Άλλες μέθοδοι περιλαμβάνουν υπερήχους, ψεκασμό και βούρτσισμα.

β) Θερμοκρασία και Χρόνος

  • Εύρος θερμοκρασίας‌: 25°C – 90°C (η θέρμανση επιταχύνει τον καθαρισμό).

  • Τυπικός καθαρισμός‌: 3 – 15 λεπτά ανά δεξαμενή (χρησιμοποιώντας καθαρό διάλυμα).

  • Επίμονο κατάλοιπο: Μπορεί να παραταθεί έως και 30 λεπτά.

γ) Βασικές Οδηγίες Λειτουργίας

  • Χρησιμοποιήστε καθαρό διάλυμα‌: Δεν απαιτείται αραίωση.

  • Διατήρηση καθορισμένης θερμοκρασίας: Αφού βυθίσετε τις γκοφρέτες στο διάλυμα απογύμνωσης.

  • Προσαρμογή χρόνου με βάση το πάχος φωτοανθεκτικού/βαθμού ενανθράκωσης‌.

Προηγούμενος: 
Επόμενος: 

Σχετικά Νέα

το περιεχόμενο είναι κενό!

WhatsApp:
+86- 18123969340 
+86- 13691824013
E-mail:
contact@yuananchemtech.com
supports@yuananchemtech.com
Ώρες λειτουργίας:
Δευτ. - Παρ. 9:00 - 18:00
Σχετικά με εμάς
Έχει επικεντρωθεί στην κατασκευή παραγόντων για ημιαγωγούς και στην παραγωγή και έρευνα και ανάπτυξη ηλεκτρονικών χημικών ουσιών.
Συνεισφέρω
Εγγραφείτε στο ενημερωτικό μας δελτίο για να λαμβάνετε τα τελευταία νέα.
Πνευματικά δικαιώματα © 2024 Shenzhen Yuanan Technology Co., Ltd. Με την επιφύλαξη παντός δικαιώματος. Χάρτης ιστότοπου Πολιτική Απορρήτου